理想能源設備（上海）有限公司致力於開發和大規模生產太陽能電池製造設備，為薄膜太陽能電池製造商提供性能最先進、價格最具競爭力、配置靈活的高端製造設備和生產線解決方案服務。公司由20多名20年以上從業經驗的國際化的團隊管理，成員均曾任職於國際知名半導體設備製造企業，專業齊全、經驗豐富、長於創新、精於管理。
公司業已投入量產的非晶/微晶疊層矽基薄膜太陽能電池製造設備：低壓化學氣相沉積（LPCVD）設備和等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）設備穩定可靠、性能優異、產能領先。經過內部馬拉松試驗和客戶生產線上的驗證，設備的各項指標都達到了世界先進水平。
理想能源最新推出了在線式PECVD設備，可適用於異質節晶體矽太陽能電池的生產或研發，其穩定、可靠的特性尤其適用於高質量異質節晶體矽電池的生產。和傳統設備相比，
在線式PECVD設備具有如下優勢：
1.創新的在線式鑲嵌式沉積腔設計：在保證薄膜高質量、高重複性、高均一性、低損傷的同時，實現高產能（單腔在線設備產能>1200片/小時）；
2.可疊層的產能倍增設計：為適應客戶高產能要求，可實現在線式多層疊加沉積腔設計，產能亦可根據反應腔層數實現倍增；
3.甚高頻技術（VHF：40MHz）：甚高頻技術能夠有效降低等離子對基片表面的損傷；
4.優化的曲面電極與電介質層：解決了引入甚高頻技術所帶來的駐波效應和邊緣效應的問題，使設備在低功率密度下依然保持均勻的電場分布，保證了非晶矽薄膜的低速、均勻、高質量生長；
5.無移動元器件等離子體射頻功率匹配系統：傳統的射頻系統匹配時間約 1-3 秒，其過程具有不確定性。而我司自主研發的無移動元器件等離子體射頻系統匹配時間≤0.5 秒，特別適用於高質量異質節晶體矽電池對界面鈍化過程重複、穩定、可靠性高的要求；
6.鑲嵌式沉積腔設計：沉積腔鑲嵌在真空腔內，上下基板均有獨立的加熱和冷卻系統，使得沉積腔環境清潔、溫度均勻性高。