PECVD技術在柔性光學膜上的應用

2021-01-17 勢銀膜鏈

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| CVD光學多層膜的應用


光學多層膜的需要：

● 防反射膜

● 光學調整膜（IM膜），等等



防反射


光學調整膜



| PECVD卷繞鍍膜機


PECVD原理圖


PECVD 法的特長：

● 高速鍍膜

● 低溫鍍膜




Twin roller as electrodes（雙電極輥）

● 沒有電極被汙染⇒確保長時間穩定生產

● 可有效利用原料氣體

● 減低鍍膜腔體的汙染


高鍍膜速度

● 300nm･m/min （阻隔膜鍍膜條件）

● 光學膜用途可高速化


Magnetron discharge

● 用此方式可使薄膜寬度方向形成均一的等離子。

● 可在膜寬度方向不斷拓寬(350～550～700～1300～)

模式圖


放電狀態


| 鍍膜的要件


高折射膜和低折射膜

均一的光學膜分布

生產階段的技術，生產性（成本）

附著力，穩定性，等等


鍍膜的要件：高折射膜和低折射膜



高折射率：SiN鍍膜

● 使用研發機W35-350C（基材寬350㎜）

● SiH4：15-200ml/min＋N2：150-1000ml/min




低折射率：SiO鍍膜

● 開發機W35-350C（使用基材寬度350㎜）

● HMDSO+O2



鍍膜的要件：光學膜厚均一分布（SiOx為例）



鍍膜的重點：量產階段的技術，生產效率（成本）


1. 量產機業績


● 1.3m寬幅量產機目前在日本2家公司使用並生產中。

● 研發機也在日本，韓國，中國的各大企業中被廣泛使用。


２．鍍膜成本

● 比磁控濺射快，可高速鍍膜

● 化學反應

● 從原料直接轉化成皮膜。

● 因不需要磁控濺射靶，所以鍍膜成本低。


對鍍膜成本構成感興趣的話請另行諮詢神鋼。


W35 CVD roll coater


膜寬度方向擴張的沿革


在日本某公司無塵室使用案例


量產機裝置的斷面模式圖



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