應用材料公司推出Centris™刻蝕系統

2020-11-22 天極網資訊

　　【天極網IT新聞頻道】· 新型智能主機平臺架構為設計更加複雜、體積更小的晶片創造了條件

　　· 系統的智能化確保每片矽片得到埃(10-10米)量級的一致性處理

　　· 刻蝕速率幾乎是任何其它矽刻蝕系統的兩倍，最多可將擁有成本(CoO)降低30%

　　2010年11月30日——應用材料公司今天宣布推出強大的Applied Centris™ AdvantEdge™ Mesa™刻蝕系統，它是面向世界上最先進的存儲和邏輯晶片的批量生產而推出的智能化程度最高、速度最快的矽刻蝕系統，開啟了晶片製造的新紀元。結構緊湊的Centris系統以前所未有的方式裝配了8個反應腔，即6個刻蝕反應腔和2個刻蝕後清潔腔，每小時可處理多達180片矽片，最多可將單片矽片的製造成本降低30%。擁有智慧財產權的系統智能軟體確保每個反應腔的每個工藝流程精確匹配，從而使每片矽片的一致性達到埃(10-10米)量級，滿足了實現未來高度複雜晶片高良率生產的關鍵要求。

　　「全新Centris主機平臺的推出將徹底轉變半導體行業增長最快的矽刻蝕領域的格局。先進微晶片的極其微小的集成電路需要越來越多的關鍵刻蝕步驟，」應用材料公司副總裁兼刻蝕事業部總經理Ellie Yieh表示，「全新Centris平臺和我們世界一流的AdvantEdge Mesa技術的結合是一個很好的典範，體現了我們以客戶為導向的創新產品如何幫助公司在刻蝕市場的多個應用領域取得快速發展。」

　　Applied Centris AdvantEdge刻蝕系統同樣為綠色工藝開闢了一條新的道路。和市場上現有的矽刻蝕系統相比，該系統每年減少的耗電量、耗水量和耗氣量相當於減排60萬磅二氧化碳1，Centris系統可幫助晶片廠商降低運營成本，支持他們可持續的生產規劃。

　　在中國北京時間11月30日上午9:30,應用材料公司將通過網絡直播探討這一突破性技術(www.appliedmaterials.com/events/becauseinnovationmatters)。在日本千葉舉行的「SEMICON Japan 2010」期間，應用材料公司將發布包括Centris平臺在內的多項重大技術。更多信息(包括多媒體資料)可通過應用材料公司在展會期間開通的網站獲取。(www.appliedmaterials.com/becauseinnovationmatters)

　　應用材料公司(納斯達克：AMAT)是一家全球領先的高科技企業。應用材料的創新設備、服務和軟體被廣泛應用於先進半導體晶片、平板顯示器和太陽能光伏產品製造產業。我們的技術使智慧型手機、平板電視和太陽能面板等創新產品以更普及、更具價格優勢的方式惠及全球商界和普通消費者。在應用材料，我們應用今天的創新去成就明天的產業。欲了解更多信息，請訪問： www.appliedmaterials.com。

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