布拉格反射鏡（也稱為分布布拉格反射器）是一種反射鏡結構，包含了兩種光學材料組成的可調節的多層結構。最常用的是四分之一反射鏡，其中每一層的厚度都對應四分之一的波長。後面的條件適用於正入射的情況，如果反射鏡用於較大角度的入射時，則相對的需要層厚更大。
布拉格反射鏡的工作原理
在兩材料的每個界面處都發生菲涅爾反射。在工作波長時，兩個相鄰界面處反射光的光程差為半個波長，另外，界面處的反射係數的符號也會發生改變。因此，在界面處的所有反射光發生相消幹涉，得到很強的反射。反射率是由材料的層數和材料之間的折射率差決定的。反射帶寬則主要由折射率差決定。
圖1給出了採用8層TiO2和SiO2材料的布拉格反射鏡的電場穿透曲線。藍色曲線對應波長為1000nm的光從右側入射時的強度分布曲線。需要注意的是，在反射鏡外面強度曲線發生振蕩，是由於相反方向的波發生幹涉效應。灰色曲線是波長為800nm時對應的強度分布曲線，這時很大一部分光可以透過反射鏡塗層。
圖1.布拉格反射鏡的電場穿透曲線。
圖2給出了反射率和群時延色散隨波長的變化曲線。反射率在有些光學帶寬範圍內很高，這與採用材料的折射率差和層數有關。色散是由反射相位對光學頻率二次求導計算得到的。色散在反射頻帶的中心波長處很小，但是往兩邊迅速增大。
圖2.與圖1相同的反射鏡的反射率（黑線）和色散曲線（藍線）。
圖3給出了光場穿透反射鏡的色階圖。可以看到，反射頻帶只有很小部分的光場可以穿透反射鏡。
圖3.場強度穿透布拉格反射鏡的程度隨波長的變化圖。圖中的顏色代表進入反射鏡的光強。
布拉格反射鏡的類型
可以採用下面幾種不同的技術製備布拉格反射鏡：
電介質反射鏡採用薄膜塗層技術，例如採用電子束蒸鍍或者離子束濺射技術，它可以用作固態體雷射器的雷射反射鏡。這種反射結構包含了非晶材料。
光纖布拉格光柵，包括長周期光纖光柵，通常用於光纖雷射器和其它光纖裝置中。類似的，體布拉格光柵也可以由光敏材料製作。
半導體布拉格反射鏡可以採用光刻技術製備。這種反射鏡可用在雷射二極體中，尤其是表面發射雷射器中。
還有用在波導結構中的各種布拉格反射器，採用波紋波導結構，由光刻技術製備。這種類型的光柵可用在一些分布布拉格反射器或者分布反饋雷射二極體中。
還有多層反射鏡設計，與簡單的四分之一反射鏡設計不同。在具有相同層數的情況下，它通常具有更低的折射率，但是可以經過優化作為二色性反射鏡或者啁啾反射鏡用於色散補償。
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