反射鏡應用於光纖雷射系統內作為尾鏡或折返鏡,以及外光路系統中的轉折鏡,其基材通常為鉬、 融石英、無氧銅、單晶矽等;
無氧銅材料由於其高熱導性通常應用於高功率雷射系統中;由於單晶矽是高性價比的基底材料,所以最常用的的基材是「矽」。銅材料由於其高熱導性通常應用於高功率雷射系統中。鉬相當耐磨的表面適用於很多特定需要的物理環境,鉬反射鏡一般是不鍍膜的。
反射鏡、高反射鏡、前表面反射鏡在光學上的應用都是一樣的。
通過真空鍍膜鍍一層金屬銀(或鋁)薄膜,使入射光反射的光學元件。採用高反射比的反射鏡可使雷射器的輸出功率成倍提高;且是第一反射面反射,反射圖像不失真,無重影,為前表面反射作用。如採用普通反射鏡為第二反射面,不僅反射率低,對波長無選擇性,而且易產生重影。而採用鍍膜膜面反射鏡,得到的圖像不僅亮度高,而且精確無偏差,畫質更清晰,色彩更逼真。前表面反射鏡廣泛為光學高保真掃描反射成像之作用。
雷射反射鏡是雷射光纖傳輸系統中重要的元件,在CO2雷射光路中,反射鏡可以有兩方面的應用,在雷射管內反射鏡可作為尾鏡,該鏡片基底帶有一定的曲率,起到震蕩雷射的作用;在某些雷射設計中,雷射反射鏡能在雷射管內改變光線,起到減少雷射管長度的作用;在雷射管外,反射鏡和聚焦鏡配合,構成一個完整的光路,使得雷射機器的設計更加節省空間,並儘可能減少雷射損耗,最大程度保留雷射工作功率。
反射鏡一般採用鉬和矽作為基底,鉬反射鏡能在條件苛刻的環境中工作,並且使用壽命長,承受功率高,表面不需鍍膜,耐擦拭,缺點是反射率低。矽是最常用的鍍膜反射鏡基材,擁有良好的光學熱力性。
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