...應用於半導體製程領域中的高純矽、靶材、試劑、氣體中的雜質檢測

2020-12-05 金融界

來源:同花順金融研究中心

同花順(300033)金融研究中心7月9日訊,有投資者向聚光科技(300203)提問, 請問:公司「質譜儀」系列產品,是否可以用於半導體檢測設備市場?

公司回答表示,感謝您對公司的關注,公司的ICP-MS(電感耦合等離子體質譜儀)可應用於半導體製程領域中的高純矽、靶材、試劑、氣體中的雜質檢測,GC-MS(氣相色譜質譜聯用儀)可應用於電子級氣體、環境雜質氣體等檢測,謝謝!(實驗室業務呂全超答)

關注同花順財經(ths518),獲取更多機會

相關焦點

  • 宜昌高純矽靶材生產廠家
    宜昌高純矽靶材生產廠家靶材成本居高不下,是異質結電池產業化過程中的一個大阻礙。由於HJT核心生產工藝僅四步,分別對應4種專用設備:清洗制絨機、PECVD、PVD或者RPD、絲網印刷機。對比海內外四大設備,海外設備較為成熟,但核心設備價格較高不具備量產經濟性。
  • 2020年集成電路用電子化學品市場現狀及發展趨勢分析超淨高純試劑...
    集成電路生產需要用到包括矽基材、CMP拋光材料、高純試劑(用於顯影、清洗、剝離、刻蝕)、特種氣體、光刻膠、掩模板、封裝材料等多種電子化學品。按照國外統計分類,電子化學品一般根據用途分為基板、光致抗蝕劑(國內稱光刻膠)、保護氣、特種氣、溶劑、酸鹼腐蝕劑、電子專用黏結劑、輔助材料等。
  • 半導體材料國產化進程加速,高純靶材企業迎機遇
    鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等。其優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低, 密度高, 可大型化等;缺點是需要後續加工和熱處理工藝降低其孔隙率,以及對熔點和密度相差較大的多種金屬合金靶材、難容金屬靶材、無機非金屬靶材、複合金屬靶材,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。
  • Milli-Q:電子級水在半導體行業矽晶圓、溼電子化學品和濺射靶材中...
    會議期間,來自默克化工技術(上海)有限公司的高級應用專家李子超分享了電子級水在半導體行業中的應用及解決方案。據介紹,純水是實驗室應用最廣泛的試劑!,浪費大量的時間、試劑和原材料。李子超表示,國內純水標準體系中GB/T11446規定的電子級水是工業用水的最高規格標準,主要用於電子和半導體工藝過程中。電子級水的高標準對採樣、存儲與運輸、檢測頻次提出了更高要求,需要注意容器選擇、容器清洗、防止汙染、貯存與運輸等問題,例行檢查至少每年一次,當制水條件發生改變時也應進行例行檢查。報告中,李子超還介紹了電子級水的水質檢測方法、注意事項和檢測儀器。
  • Cu磁控濺射靶材廠家直銷
    高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優點,其靶材材料廣泛應用於背面金屬化系統、汽車工業、高溫材料和生物醫學中。「半導體器件用鎳鉑靶材的製備關鍵技術及產業化」取得重大突破,建立了生產線並取得良好經濟效益,鎳鉑靶材替代了進口產品並遠銷海外。國內靶材等半導體材料的領袖企業,實現了高純金屬、靶材一體化運營,在高純金屬、銅靶材、鈷靶材等產品上實現了技術突破。
  • 【申萬宏源中小盤】半導體材料國產化進程加速,高純靶材企業迎機遇...
    其優點是靶材雜質含量(特別是氣體雜質含量)低, 密度高, 可大型化等;缺點是需要後續加工和熱處理工藝降低其孔隙率,以及對熔點和密度相差較大的多種金屬合金靶材、難容金屬靶材、無機非金屬靶材、複合金屬靶材,普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。
  • 三明磁控濺射靶材整套價格
    三明磁控濺射靶材整套價格中國集成電路材料現狀如何?靶材是薄膜製備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約佔10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持複合增速13%,到2018年全球靶材市場空間達到983億元,超越全球金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。
  • 金銅合金濺射靶材型號
    半導體材料主要分為晶圓製造材料和封裝材料,料包括矽片(37%)、光刻膠、光刻膠配套試劑、溼電子化學品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等;、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在晶片製造設備領域。美國、日本、荷蘭依然佔主導地位。國內的晶片製造與韓國和歐洲的企業相比都相距甚遠。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發鍍膜以及離子鍍膜。
  • 電路磁控濺射靶材背管
    高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優點,其靶材材料廣泛應用於背面金屬化系統、汽車工業、高溫材料和生物醫學中。「半導體器件用鎳鉑靶材的製備關鍵技術及產業化」取得重大突破,建立了生產線並取得良好經濟效益,鎳鉑靶材替代了進口產品並遠銷海外。國內靶材等半導體材料的領袖企業,實現了高純金屬、靶材一體化運營,在高純金屬、銅靶材、鈷靶材等產品上實現了技術突破。
  • 半導體國產化:靶材(附深度)
    濺射鍍膜技術起源於國外,所需要的濺射材料——靶材也起源發展於國外。1842年格波夫在實驗室中發現了陰極濺射現象,由於人們對濺射機理缺乏深入了解且濺射薄膜技術發展緩慢,商業化的磁控濺射設備直到1970年才逐漸應用於實驗室和小型生產。
  • 阿石創:所生產的矽靶材作為應用於手機玻璃蓋板的重要靶材產品,現...
    投資者問:興業證券股份有限公司《關於公司變更部分募集資金投資項目的核查意見》項目可行性分析中」隨著人臉識別技術的愈發成熟,紅外手機人臉識別開始大量普及,成為當前市場的重要發展趨勢,而矽靶材作為手機玻璃蓋板的關鍵鍍膜材料,也將迎來一波較大增長「。請問怎樣解讀?
  • 阿石創:公司所生產的矽靶材作為應用於手機玻璃蓋板的重要靶材產品...
    同花順金融研究中心4月14日訊,有投資者向阿石創提問, 興業證券股份有限公司《關於公司變更部分募集資金投資項目的核查意見》項目可行性分析中」隨著人臉識別技術的愈發成熟,紅外手機人臉識別開始大量普及,成為當前市場的重要發展趨勢,而矽靶材作為手機玻璃蓋板的關鍵鍍膜材料,也將迎來一波較大增長
  • 化學痕量分析中選擇不同的試劑介紹
    用途:用於氣相色譜檢測(ECD、PND),用於有機氯、有機磷農藥, PCBs及其他用GC/ECD和GC/PND檢測的化合物。另外,還有專用於二惡英、呋喃、PCBs等化合物分析用的ENVISOLV ®試劑; 用於環境中高揮發性氯代烴的氣相色譜色譜(ECD)分析、芳香烴的檢測(FID)分析用的OEKANAL®試劑。
  • 半導體雜質檢測難?半導體專用ICP-MS來幫你!
    對Fab工廠而言,控制晶圓、電子化學品、電子特氣和靶材等原材料中的無機元素雜質含量至關重要晶圓中的金屬雜質分析(UCT-ICP-MS)晶圓等半導體材料中的主要成分是矽。高矽基體的樣品在傳統的冷等離子體條件下分析,其中的耐高溫元素矽極易形成氧化物。
  • 痕量元素分析中的空白汙染控制—試劑篇
    隨著ICP-MS等痕量、超痕量檢測技術的廣泛應用,人們發現試劑不純帶來空白值高的問題已經制約了這些痕量檢測技術的實際應用,含有雜質的空白試劑是影響樣品分析檢測結果的萬惡之源,試劑空白成了分析結果準確性的關鍵。
  • 忻州磁控濺射靶材多少錢
    忻州磁控濺射靶材多少錢濺射靶材是用濺射法沉積薄膜的原材料,主要應用於面板顯示、半導體和磁記錄薄膜太陽能領域。特別是高純度濺射靶材應用於電子元器件製造的氣相沉積工藝,是製備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射,是製備薄膜材料的主要技術,也是PVD的一種。
  • 為什麼高純氣體管道在高純氣體輸送中那麼重要?
    在高純氣體的輸送中,我們都知道要用光潔度等級高的高純氣體管道,這樣可以保障氣體純度,怎麼保障的呢?下面由深圳沃飛的工作人員來給我們介紹一下:因為,當不鏽鋼材加工後,不僅在其表面會有各種汙染物,在其晶格內也會吸留一定量的氣體。每噸不鏽鋼熔煉製材,可吸收大約200g的氣體。
  • 半導體晶片濺射靶材價格
    半導體晶片濺射靶材價格 科技日報:ITO靶材屬於35項卡脖子技術之一。UVTM掌握濺射靶材生產的核心技術以後,實施極其嚴格的保密措施,限制技術擴散,同時不斷進行橫向擴張和垂直整合,將業務觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應用領域。研製出適用不同應用領域的濺射靶材產品,才能在全球濺射靶材市場中佔得一席之地。