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CVD真空鍍膜設備有哪些實例
對於CVD真空鍍膜設備的工作過程可以定性地歸結為:反應氣體通到基材上後,反應氣體分子被基材表面吸附,並在基材表面上產生化學反應,緊接著形成核,再通過反應生成物不斷脫離基材的表面,同時沿著基材表面不斷擴散最終形成薄膜的過程。
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真空半導體鍍膜的應用有哪些
近年來,真空半導體鍍膜在各大半導體企業中,顯然其地位是越來越高的,特別是在一些大規模集成系統電路的開發技術研究方法以及磁電變換器件、發光器件等研製工作方面的體現尤為明顯,真空半導體鍍膜具有重要的作用。半導體根據其固有的性質、溫度和雜質濃度來確定它的特徵表現。
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真空鍍膜技術
真空鍍膜技術是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.真空鍍膜的應用廣泛,如真空鍍鋁,在塑料等基體上進行真空鍍,再經過不同顏色的染色處理,可以應用於家具、工藝品、燈飾、鐘錶、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產品製造中,裝飾效果十分出色.
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磁控濺射鍍膜設備原理
在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子,,電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直於電場的磁場影響,使電子產生偏轉,被束縛在靠近靶表面的等離子體區域內,電子以擺線的方式沿著靶表面前進,在運動過程中不斷與Ar原子發生碰撞,電離出大量的Ar+離子,經過多次碰撞後電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,最終落在基片、真空室內壁及靶源陽極上。
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磁控濺射鍍膜設備原理是什麼
磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開始的「濺射現象」說起。人們由起初發覺「濺射現象」發展至「濺射鍍膜」此間歷經了相當長的發展時間,濺射現象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實驗就已經發現了。不過當時還只將此現象作為一種避免範疇的研究,認為這種現象是有害的。
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離子鍍膜技術的類型有哪些
離子鍍是一種將靶材物料沉積在基材上的鍍膜方法,此類鍍膜工藝原理是靶材藉助電弧被離子化和汽化,然後高速沉積到基材之上。離子鍍通常在真空室或惰性氣體裝置中進行,離子鍍膜技術也稱為物理氣相沉積技術(PVD)。
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真空濺鍍原理
濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。在E X B shift機理下工作的不光磁控濺射,多弧鍍靶源,離子源,等離子源等都在次原理下工作。所不同的是電場方向,電壓電流大小而已。 離子鍍的種類是多種多樣的。由於不同類型的離子鍍方法採用不同的真空鍍:鍍料氣化採用不同的加熱蒸發方式:蒸發粒子及反應氣體採用不同的電離及激發方式等。
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真空離子刻蝕技術的基本工藝原理是什麼
真空離子刻蝕技術的基本原理,是在特定的真空環境條件下,通過離子束轟擊固體表面出現的濺射現象來對樣品進行剝離、清洗、刻蝕等加工手段。該技術需要用到的有電源、真空容器、真空抽氣泵組、離子源、工作檯、電氣系統、供氣系統、水冷裝置以及快門等主要結構。
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必須在真空環境才能操作,離子鍍是什麼「黑科技」?
離子鍍離子鍍是一種在真空環境中,利用高壓氣體放電將鍍料蒸發後離子化,沉積在產品表面形成一層鍍膜的工藝。離子鍍工藝出現於上世紀70年代,是一種新型的真空鍍膜工藝,離子鍍目的也是為了在產品表面鍍上一層防腐蝕層,以防止產品生鏽。離子鍍技術雖然出現的時間短,但應用卻很廣泛,可以用於日常用品,工藝品,航天航空以及光學器件等工業領域。
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真空鍍膜知識
(2)真空狀態下由於氣體稀薄,單位體積內的氣體分子數,即氣體的分子密度小於大氣壓力的氣體分子密度。因此,分子之間、分子與其他質點(如電子、離子等)之間以及分子與各種表面(如器壁)之間相互碰撞次數相對減少,使氣體的分子自由程增大。物理真空本指沒有任何實物粒子存在的空間,但什麼都沒有的空間是不存在的。
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PVD鍍膜設備的真空度測量涉及的問題有哪些
在PVD鍍膜設備的真空度測量中,需要用到真空規來對被研究的稀薄氣體壓力進行比較精確的測量,此間,必須考慮以下三個問題:振華真空多弧離子鍍膜設備1、首先,要先對被研究的對象有基本的了解,需要涉及以下問題:(1)所處環境溫度:是否等溫?
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真空•鍍膜 | 真空鍍膜技術,解決船舶腐蝕大難題
讓船體表面的塗料中的陽離子與海水中的H+等進行離子交換,從而改變附著生物生長環境的pH值。但這種塗料的有效防汙期並不長,理化性能很差。除此之外,還有仿生防汙塗料、生物化學塗料、導電防汙塗料等也在研發當中,但有業內初步估計,成本會比較高,效果有限。真空鍍膜解決大問題近些年來,真空鍍膜技術發展很快。
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靶材在真空鍍膜中的應用
新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶瓷材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,電漿中的陽離子會加速衝向作為被濺鍍材的負電極表面,這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
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Manz發布雙面鍍膜新設備 進軍真空鍍膜市場
2012年8月6日高科技產業整合解決方案供應商Manz AG宣布將正式進軍晶體矽太陽能電池真空鍍膜市場,並借參展於法蘭克福舉行的歐洲光電太陽能會議暨展覽會(EU PVSEC)期間,推出新型等離子體化學氣相沉積(PECVD)垂直鍍膜設備VCS 1200,該設備能對晶體矽太陽能電池進行正面與背面的雙面鍍膜
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專欄PVD鍍膜技術之離子鍍技術
在前幾期的薄膜專欄中,我們分別介紹了,真空蒸鍍以及濺射鍍膜(點擊連結看原文)傳統的蒸鍍以及濺射鍍膜均主要利用中性粒子成膜,膜層粒子到達基片時的速度較低
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真空電弧離子鍍膜機的工藝原理是什麼
真空電弧離子鍍膜機的技術原理是在冷陰極真空弧光放電理論的基礎上研究出來的。而通過分析冷陰極真空弧光放電理論可知,通過放電活動中的「正離子電流機制」與「場電子發射機制」兩者間的相互影響與制約可實現電量遷移。
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中科院合肥研究院完成「直徑2.2米大型真空鍍膜機」修復工作
真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD雷射濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。11月18日,中科院合肥研究院安光所經1個多月完成了「直徑2.2米大型真空鍍膜機」的修復工作。
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凱旋真空5G產業真空鍍膜裝備產業園一期擬年底建成
光學薄膜實驗室內,工作人員正在觀察真空鍍膜機進行相關試驗。攻克5G讀「屏」卡脖子技術問題1992年落戶中山,凱旋真空成長為真空技術設備領域「隱形冠軍」,2018年掛牌新三板;2019年,公司再次轉型升級,5G產業真空鍍膜裝備產業園項目破土動工。聶新德告訴記者,通過項目的實施,將構建國內光學薄膜工藝及裝備開發的共享平臺。
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太陽能光伏PECVD鍍膜設備
北極星太陽能光伏網訊:概述前面幾章已經介紹了太陽電池生產線上的清洗制絨、擴散和刻蝕等設備結構及性能參數。本章將著重闡述鍍膜設備———等離子體增強化學氣相沉積(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,簡稱PECVD)。
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杭州回收電鍍真空鍍膜機+新柯隆光學離子鍍
杭州回收電鍍真空鍍膜機+新柯隆光學離子鍍隆誠旺創建於2015年3月,經十年的發展後遷於東莞,總投資1000萬。主營真空電鍍手機外殼、數碼系列、電腦周邊、工藝首飾、包裝系列產品。是一家集回收無塵噴塗、真空鍍膜、不導電電鍍等一體化專業技術公司。 公司擁有全自動現代化進口二手噴塗設備、二手真空鍍膜機及雷射鐳雕機等,公司的管理、營銷和主要技術人員都是從事塗裝及真空鍍膜行業多年的骨幹人員,十分熟悉公司的生產及業務流程管理,營銷生產及開發能力強大,能滿足客戶產品的各類加工需求。