美國禁止出口5納米光刻機技術,我國EUV光刻機無望

2020-12-03 松鼠財經

美國禁止出口5納米光刻機技術,我國EUV光刻機無望。

近日,美國商業管制清單新增加了六項新內容:

1,混合增材製造/計算機數控工具;

2, 特定的計算光刻軟體;

3,用於為5nm生產精加工晶圓的某些技術;

4, 有限的數字取證分析工具;

5, 用於監測電信服務通信的某些軟體;

6, 亞軌道太空飛行器。

7納米以下晶片製造的EUV光刻機,包含美國技術。如此看來,我們只能自力更生了!2018年中芯國際向ASML定的EUV光刻機,石沉大海,只有波浪,沒有回音。

前不久,ASML說可以直接從荷蘭出口DUV光刻機給中國,無需任何出口許可。但是相關系統或配件需要從美國出口的話,仍然需要得到美國的許可。其中EUV光刻機,不在「免出口」範圍。

這未免有這樣的猜想:

ASML說:中國快要突破22納米光刻機了,再不賣,到時就不值錢了。我也要生存!

美國說:不擔心!我給你出主意,DUV光刻機隨便賣。設備配件壞時,只能從我這裡出口。到時再限制出口,你錢賺了,我也達到了目的。

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    《納米快報》(Nano Letters)上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
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  • 中科院的5nm光刻技術,和ASML的5nm光刻機是兩碼事
    但重要的是當晶片進入到7nm時,必須要用到EUV光刻機,即紫外線光刻機,波長為19.3nm的光源,這種光刻機只有ASML能夠製造,而中國芯要實現7nm或以下技術,就得看ASML的臉色,要看對方賣不賣EUV光刻機給你。
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  • 世界上最先進的EUV光刻機,為什麼只有荷蘭阿斯麥公司做出來了?
    一是作為光刻核心設備的光刻機組件複雜,包括光源、鏡頭、雷射器、工作檯等組件技術往往只被全球少數幾家公司掌握;二是作為與光刻機配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導體材料和塗膠顯影設備等,同樣擁有不低的技術含量。上個世紀50年代末,仙童半導體發明了掩膜版曝光刻蝕技米,由此拉開了現代光刻機發展的序幕。
  • 光刻機能幹什麼_英特爾用的什麼光刻機_光刻機在晶片生產有何作用
    >   光刻機能幹什麼   光刻機又被人們稱為「用光雕刻的機器」,可見其重要性了,作為晶片製造的核心設備之一,我國的光刻機技術還處在起步的階段,主要依靠進口。
  • 中科院再傳喜訊,打破西方技術壟斷,或將突破5nm光刻機技術
    雖然我國華為研發出了5G,但要想有高端的晶片還是離不開光刻機的支持。據了解,我國的中科院再次傳來喜訊,更是打破了西方的技術壟斷,或將突破荷蘭的5nm光刻機技術!而面對他們這樣的做法,我國也是沒有氣餒,也是不斷在進行努力。我們都知道西方國家掌握著核心技術,而他們自然不會輕易的將技術進行出口,而他們這樣做也是害怕我國實現彎道超車超越他們。
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    奧秘在於,很多投資者並不了解,此光刻機非彼光刻機。光刻機由於光源波長不同其解析度也不同,用於集成電路製造的最先進光刻機已經到5納米,國產集成電路光刻機可做到28納米,正在向14納米進發。分立器件、LED等需要的光刻機線寬不需要納米級,可能只需要微米級。半導體行業人士告訴《中國經營報》記者,所以大族雷射的光刻機不可能用在集成電路製造中,精度不高,難度也並不大。