對PECVD工序鍍膜工藝的優化分析

魔鬼在細節~氮化矽鍍膜工藝參數優化

摘要:利用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)法沉積給定折射率的氮化矽薄膜,通過正交實驗法對襯底溫度、NH3流量和射頻功率3個對氮化矽薄膜沉積速率影響較大的工藝參數進行全局優化和調整,得到了氮化矽鍍膜的最優工藝參數。等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)的氮化矽薄膜作為理想的減反射膜,具有很好的表面鈍化作用,已被廣泛地用於半導體器件[1]。

太陽能電池片科普系列——(鍍膜)PECVD篇

優良的表面鈍化效果、高效的光學減反射性能（厚度折射率匹配）、低溫工藝（有效降低成本）、生成的H離子對矽片表面鈍化.三、鍍膜車間常見事項膜厚。沉積時間的不同膜厚也是不一樣的要根據鍍膜的顏色來適當的增加或減少它的沉積時間，片子發白要減少沉積時間，如偏紅則要適當的增加。

PECVD工藝後不良矽片檢測

PECVD工藝沉積的SiN膜，標準膜厚為73nm±8nm、膜厚均勻呈深藍色、折射率2.1±0.1。但是在實際生產過程中，這些指標會受PECVD工藝溫度、氣體流量比、氣體總流量、射頻功率、工藝時間等參數的影響，出現膜層薄厚不均勻、折射率不合格;還會因為某些原因產生劃痕、水痕、髒汙、手印、崩邊、缺角等缺陷。如果不良品流入下一道絲印工序，將導致電池片成品質量下降。

PVD鍍膜工藝介紹!

四、裝飾膜種類1．金屬件裝飾膜鍍制工藝比較成熟的鍍膜技術有電弧離子鍍下面分別從各類鍍膜技術中選取一種具有代表性的典型鍍制工藝進行介紹。1.1用電弧離子鍍的方法為黃銅電鍍亮鉻或鎳手錶殼鍍制TiCN膜。採用小弧源鍍膜機和脈衝偏壓電源；(1)工件清洗、上架、入爐工件在入爐之前要經過超聲波清洗、酸洗和漂洗三道工序。

太陽能光伏PECVD鍍膜設備

本章將著重闡述鍍膜設備———等離子體增強化學氣相沉積(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition，簡稱PECVD)。PECVD作為太陽電池生產線上的關鍵設備之一，其市場需求相當大，所以PECVD技術在70年代以來已成為研究的熱點，並將不斷成長為一項成熟的技術。PECVD與一般的CVD方法相比既有相同之處，又有它獨特的優勢。

解析:應用於IPS及On Cell的Back Side ITO鍍膜工藝

北京時間01月08日消息，中國觸控螢幕網訊，低溫鍍膜工藝應用於面板Backside ITO可提高顯示面板價值，近來成為觸控及顯示同業間常被提及的課題。勤友光電設備及技術團隊具備多年開發經驗，實際應用於國際級客戶的小尺寸智能型手機面板以及中大尺寸平板計算機/筆記本電腦面板等產品中。

PVD鍍膜工藝技術

一、真空蒸發鍍膜電阻加熱蒸發和電子束加熱蒸發:1、基本原理:把待鍍膜的基片或工件置於高真空室內,通過加熱使成膜材料氣化(或升華)而澱積到基片或工件表面上,從而形成一層薄膜的工藝過程.它的發展引起了薄膜製備工藝的巨大變革。

玻璃鍍膜的主要工藝有哪些?

踱膜玻璃的主要生產方法1,化學氣相沉積法化學氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質氣體，供給基板，利用氣相反應，在基板表面上反應沉積出所需固體薄膜的工藝技術，該技術已成為鍍膜玻璃生產的主要製備技術

鍍膜玻璃的技術工藝及產品性能比較

鍍膜玻璃通過真空法或化學鍍膜法等工藝方法在玻璃表面塗以金、銀、鉻、鈦、鎳、不鏽鋼等金屬或氧化物薄膜或非金屬氧化物薄膜，或採用等離子交換方法，向玻璃表面滲入金屬離子以置換玻璃表面層原有的離子而形成反射膜，製造出鍍膜玻璃，它的顏色有灰色、金色、藍色、綠色、棕色等多種顏色。鍍膜玻璃的性能原理主要是薄膜光學原理。

PVD鍍膜及其常用的靶材

濺射鍍膜工藝可重複性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所製備的薄膜具有純度高、緻密性好、與基板材料的結合力強等優點，已成為製備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量最大的 PVD 鍍膜材料。

...雷諾真空技術有限公司的業務定位於中高端半導體工藝和真空鍍膜...

同花順金融研究中心5月15日訊，有投資者向新萊應材提問，董秘好，請介紹一下公司控股子公司雷諾真空技術有限公司與中科儀的異同點，謝謝公司回答表示，公司控股子公司蚌埠雷諾真空技術有限公司的業務定位於中高端半導體工藝和真空鍍膜設備的設計、加工製造、工藝開發以及系統集成。

管式PECVD鍍膜均勻性改善

2020-04-17 採用管式PECVD的方法對矽片進行氮化矽鍍膜，通過分析PECVD

2、真空蒸發鍍膜的定義真空蒸發鍍膜是在真空條件下，用蒸發器加熱蒸發物質使之汽化，蒸發粒子流直接射向基片並在基片上沉積形成固態薄膜的技術。包括熱蒸發和EB蒸發（電子束蒸發）。3、真空蒸發鍍膜主要過程1）採用各種能源方式轉成熱能，加熱膜材使之蒸發或升華，成為具有一定能量的氣態粒子（原子、分子和原子團）；2）離開膜材表面，具有相當運動速度的氣態粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運到基體表面；3）到達基體表面的氣態粒子凝聚形成核後生長成固相薄膜；4）組成薄膜的原子重組排列或產生化學鍵合。

電鍍錫板表面硬度的快速測定及工藝參數的優化

本文從塗料工業及汽車行業對外殼塗層硬度的測定中受到啟發[3]12-15，將它們常用的鉛筆硬度法移植到鍍錫板表面硬度研究中來，並加以適當改進，經多次實驗，筆者發現鉛筆硬度法可以定量、半定量地測定電鍍錫板的表面硬度，本文用此方法測定了多種工藝條件下鍍錫板的表面硬度，並由此為依據，從理論上對電鍍錫板生產的優化工藝條件進行了探討.

在線與離線鍍膜玻璃區別分析

這種生產工藝決定了在其產品的高性能和多顏色選擇性，因此屬於高檔產品。在線鍍膜玻璃是在浮法玻璃生產過程中，在熱玻璃的表面上噴塗Sn的化學溶液或粉末，形成土灰色的單層化合物薄膜而製成的。產品多以有色玻璃為基片，顏色主要靠有色玻璃本身的顏色決定的。這種生產工藝決定了在線鍍膜玻璃的性能較差和低檔產品的屬性。既然在線鍍膜是低檔產品，我國為何還會發展呢？

PVD鍍膜的基本方式、材料種類及其競爭格局

靶材製造環節首先需要根據下遊應用領域的性能需求進行工藝設計，然後進行反覆的塑性變形、熱處理來控制晶粒、晶向等關鍵指標，再經過水切割、機械加工、金屬化、超生測試、超聲清洗等工序。濺射靶材製造所涉及的工序精細且繁多，工序流程管理及製造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質量和良品率。此環節是在濺射靶材產業鏈條中對生產設備及技術工藝要求最高的環節，濺射薄膜的品質對下遊產品的質量具有重要影響。

應用於磁控濺射鍍膜生產線的計算機監控系統的設計

清華微電子推出高頻管分立器件裸片，已做到9G截止頻率該系列生產線在吸收歐洲同類生產線的先進技術和鍍膜工藝的同時，融合了獨特的操作人性化、使用簡便化設計理念，在用戶群體中得到了充分的肯定。在該系列磁控濺射鍍膜生產線中，一臺10.4寸pro-face彩色觸控螢幕作為主要操作界面已經成為標準配置，工作亦較穩定.由於鍍膜生產中需要控制的工藝參數較多，為了更大地提高工作效率和鍍膜工藝的可控性，我們設計了一套計算機監控系統來完成整個生產過程的監控和參數優化，從而使鍍膜生產具有很好的工藝重複性，更適合工業化大批量生產的需要。