大約是在美國將華為加入全面限制清單後，網上開始出現上海微電子（SMEE）將在明年交付28nm光刻機的消息，各大網媒都進行了轉載，但至今官方並未對這條消息做出任何回應，至於這條消息的源頭是哪裡，我個人勢單力薄是肯定查不到了，但消息本身稍微細想一下似乎有點兒站不住腳。
最主要的就是這個28nm的數字顯得挺詭異的。28nm到底指的是什麼呢？是光源波長嗎？但是DUV（深紫外光）的波長是193nm，EUV（極紫外光）是13.5nm，更短的DUV波長會被介質吸收，所以28nm顯然不是指光源。
那是指可製造的晶片製程嗎？但是DUV光刻機能生產的晶片的最高精度可以達到7nm（通過多重曝光等手段），如果指的是單次曝光，那ASML目前最先進的DUV光刻機TWINSCAN NXT:2000i也僅能達到38nm左右的解析度。上海微電子在國產光源都落後於國外的情況下能做到更高精度顯然也不現實。
綜上，28nm這個數字很可能是某個半導體行業外的對相關技術細節不了解的好事者或媒體人杜撰出來的一個數字，這個數字有很強的蠱惑性，SMEE目前最先進的前道光刻機SSA60/20的解析度是90nm，而28nm是從低成本轉向高性能的一個重要製程節點，跨度上不算太激進，又有足夠提氣的提升幅度，乍看之下似乎很合理，同時在當前國產崛起的民族情緒下能夠吸引足夠多的眼球。
上海微電子的前道光刻機型號
儘管如此，我還是不想武斷地論斷這條消息的真假，只能說現實確實有些喪氣，就目前公開的信息來看，中國在前道光刻機領域還落後很多，上海微電子幾乎是國產前道光刻機的獨苗，而前道光刻機涉及幾十項關鍵核心技術，包括光源、光學模組、傳送帶等等，國產的替代品可以說是全面落後，事實上即便是ASML也不可能靠一已之力造出世界上最先進的光刻機，其大部分核心部件均來自於第三方廠商，由此可見全國產化的超越有多困難。
當然前途也並不是那麼悲觀，RCEP的籤署狠狠打了正在逆全球化的燈塔國一巴掌，中國不可能也沒必要靠自己一人搭建全套的半導體產業鏈，完全可以尋求和所有非美半導體企業的合作（大量光刻機的核心部件商是非美企業），快速補足自身的短板，之後再逐步實現國產化替代，這歷來是中國人的拿手好戲，比如剛通過上海適航審定認證的國產大飛機C919。
很多人覺得歐美意識形態一致，又有瓦森納協議限制，中國不可能獲得他們的先進技術，這個看法放在尋常時期倒也沒錯，然而疫情蔓延之下，歐美各國經濟面臨嚴重危機，甚至歐盟內部都遠不是鐵板一塊，更何況與美國的關係了，事實上英法德等西歐主要國家對美國一直長期採取陽奉陰違的態度，在本國利益面前，任何外交關係都是可以撬動和變化的。RCEP形成的全球最大的單一貿易圈對當下的歐洲，吸引力無疑是巨大的，中國有很多策略可以運用。
中國芯加油！
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