-
實密正式引進HJT製程PECVD 鍍膜設備
實密國際貿易(上海)有限公司緊跟市場未來發展趨勢,引入ARCHERS的PECVD HJT生產工藝關鍵設備,據悉此PECVD設備鍍非晶矽層膜後的開路電壓Voc>730mV,為客戶開拓了寬廣的製程窗口,加上客戶自行印刷與模塊封裝等後製程,保持高短路電流Isc與填充因子(FF%),很容易達到21% 以上的轉換效率,實現用戶太陽能發電的產出最大化,也實現電池片廠家利潤最大化。
-
...這筆訂單包含'電漿增強化學氣相鍍膜設備'(PECVD)與'新式TCO...
EQS 新聞 / 2016-04-07 / 16:36 UTC+8新 聞 稿2016年4月7日精曜科技創業七年有成,宣布再度獲得國際級矽晶太陽電池領導廠商新日光能源科技公司的設備續單,這筆訂單包含'電漿增強化學氣相鍍膜設備
-
太陽能光伏PECVD鍍膜設備
北極星太陽能光伏網訊:概述前面幾章已經介紹了太陽電池生產線上的清洗制絨、擴散和刻蝕等設備結構及性能參數。本章將著重闡述鍍膜設備———等離子體增強化學氣相沉積(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,簡稱PECVD)。
-
大尺寸矽片管式PECVD設備應用需面臨哪些挑戰
,矽片尺寸增大在電池片製造、組件封裝等環節能夠實現成本節約,據了解M6電池片各製程的工藝時間與M2製程時間相差不大,因此在電池製造過程中每片大約可降低0.05元成本。 但我們也要認識到現有的設備可能無法兼容大尺寸的矽片,矽片增大後又會給設備製造商帶來新的需要解決的問題,整個製造環節都需要技術升級和突破,在這裡以管式PECVD設備(如圖1所示)為例討論M6、M12矽片鍍膜時需要做哪些準備和考慮。
-
ITO鍍膜技術 大突破
發表於:2010-07-07 08:57:45 作者:索比太陽能來源:Solarbe.com 工研院跨領域研發「低溫大氣壓電漿透明導電鍍膜製程與設備」,這項研究獲選工研院今年的「傑出研究金牌獎」,昨天在工研院37周年院慶中獲得表揚。
-
Manz發布雙面鍍膜新設備 進軍真空鍍膜市場
2012年8月6日高科技產業整合解決方案供應商Manz AG宣布將正式進軍晶體矽太陽能電池真空鍍膜市場,並借參展於法蘭克福舉行的歐洲光電太陽能會議暨展覽會(EU PVSEC)期間,推出新型等離子體化學氣相沉積(PECVD)垂直鍍膜設備VCS 1200,該設備能對晶體矽太陽能電池進行正面與背面的雙面鍍膜
-
【有圖有數】OLED各段製程設備及企業匯總
Array製程:前段製程,將薄膜電晶體作於玻璃上,主要包含成膜、 微影、蝕刻和檢測等步驟。Cell製程:中段製程,以前段Array製程制好的玻璃為基板,與彩色濾光片的玻璃基本結合,並在兩片 玻璃基板中注入液晶。
-
傳臺灣工研院研發出大氣電漿鍍膜技術
業務組長周大鑫博士說,研發初衷是為了節能,希望開發低耗能的光電產業鍍膜技術。現在鍍膜的製程為達到高品質,須在真空環境下進行,為了維持真空度,即便不鍍膜,真空設備也要持續運行,相當耗能;另一方面,銦是稀有金屬,主要出產自中國,來源不穩定,常有價格波動問題。隨著近年導入非銦材料取代ITO薄膜的議題亦趨熱門,團隊也研究導入非貴重金屬材料鍍制透明導電膜,降低製造成本與風險。
-
邁為股份上半年淨利增52%,成功研製HJT核心設備板式PECVD
根據戰略規劃,公司依託印刷噴印、雷射和真空三方面技術研發,瞄準光伏裝備、OLED面板設備等市場,形成多層次立體化的業務布局。在HJT高效電池設備領域,公司前瞻性布局,較早投入相關項目研發,致力於為客戶提供優質的HJT整線解決方案。
-
太陽能電池片科普系列——(鍍膜)PECVD篇
三、鍍膜車間常見事項膜厚。沉積時間的不同膜厚也是不一樣的要根據鍍膜的顏色來適當的增加或減少它的沉積時間,片子發白要減少沉積時間,如偏紅則要適當的增加。每一舟片子要全面的確認,不允許把不良品流入到下道工序,如色斑、水印鍍膜不良,應及時挑出產線最常見的表面發白、色差、白點,其中表面發白主要由於氮化矽膜較厚導致,可通過調節膜沉積時間來調整;色差片主要由於氣路堵塞、石英管漏氣、微波故障等導致;白斑主要由於前道小黑點導致。反射率、折射率等的監測、特殊氣體的安全等。
-
管式PECVD如何應對大尺寸矽片
從156.75 mm到166 mm,大尺寸矽片已經悄然進入市場,矽片尺寸增大在電池片製造、組件封裝等環節能夠實現成本節約,據了解M6電池片各製程的工藝時間與M2製程時間相差不大,因此在電池製造過程中每片大約可降低0.05元成本。
-
對PECVD工序鍍膜工藝的優化分析
在現行的鍍膜工藝中要使用矽片鍍膜,需進行兩次鍍膜才能完成飽合的過程,詳細步驟如下圖。 結合下圖,一次鍍膜工藝的時間5410S≈89min,如果用矽片鍍,剛要在兩次鍍膜之間增加等待時間和換片時間(如果連續使用同一組矽片鍍兩次,會使得矽片變成彎曲的廢片,無法使用),再加上膜的放置時間及矽片約20分鐘,共計約178+20 min,約3.3小時。
-
Ferrotec:立昂東芯微電子訂購精密電子束蒸發鍍膜設備
加州聖克拉拉2016年6月29日電 /美通社/ -- Ferrotec公司(JASDAQ:6890)今天證實,中國客戶訂購的首臺採用 Auratus 技術的先進鍍膜設備 (Temescal UEFC 系列精密電子束蒸發鍍膜設備)將交付於杭州立昂東芯微電子有限公司。
-
管式PECVD鍍膜均勻性改善
據了解,本次金辰股份非公開發行募集資金金額不超過3.8億元,扣除發行費用後的募集資金淨額將用於投資年產40臺(套)光伏異質結(HJT)高效電池片用PECVD設備項目及補充流動資金。項目投資總額為2.85億元,其中固...
-
磁控濺射鍍膜設備原理是什麼
磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開始的「濺射現象」說起。人們由起初發覺「濺射現象」發展至「濺射鍍膜」此間歷經了相當長的發展時間,濺射現象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實驗就已經發現了。不過當時還只將此現象作為一種避免範疇的研究,認為這種現象是有害的。
-
CVD真空鍍膜設備有哪些實例
接下來看看廣東振華CVD真空鍍膜設備實例:1、低溫鍍膜裝置低溫CVD真空鍍膜設備在500°C以下製作絕緣薄膜就屬於低溫鍍膜了,廣泛應用在集成電路中鋁布線表面防護膜、線間絕緣膜等膜層製作。3、CVD真空鍍膜設備製作金屬薄膜該設備幾乎適用所有的金屬鍍膜,但通常一些低熔點的金屬鍍膜不必用CVD鍍膜設備,更多是採用蒸鍍設備或是離子鍍設備。所以CVD鍍金屬膜的話,一般只在製作熔點較高、硬度較大的膜層製備上(如Mo、W、Re、Ta等)。
-
解析:應用於IPS及On Cell的Back Side ITO鍍膜工藝
北京時間01月08日消息,中國觸控螢幕網訊, 低溫鍍膜工藝應用於面板Backside ITO可提高顯示面板價值,近來成為觸控及顯示同業間常被提及的課題。勤友光電設備及技術團隊具備多年開發經驗,實際應用於國際級客戶的小尺寸智能型手機面板以及中大尺寸平板計算機/筆記本電腦面板等產品中。
-
manz iss1200連續式多腔體濺鍍系統應用於薄膜太陽能電池鍍膜 有效...
•Manz 目前可供應整個薄膜製程鏈的生產設備•ISS1200也可應用於生產TFT顯示器面板、觸控螢幕及OLED有機發光面板的製造•中國當地生產,以最快的速度供應核心市場Manz 為全球領先的高科技設備製造商
-
深度報告 || HJT設備產業化發展潛力探析
PECVD:降本增效為系統工程,存在難度但潛力可期從市場主流 HJT PECVD 供應商供應的 PECVD 特點看,設備廠商在設計理念 上各具特色,但體現出在提升鍍膜質量和優化設備產能方面的持續追求。我們 認為,通過多角度挖潛,PECVD 產能、效率、穩定性等仍具向上提升空間, 提效降本潛力可期。
-
「2018年度中國pvd鍍膜十大品牌總評榜」榮耀揭曉
為因應日漸明確的市場趨勢和客戶需求,2013年投資成立半導體/光電製程設備,分割光電事業群旗下所屬製造、研發等業務,除納入原臺南廠區,並增設含無塵室在內的桃園廠區。主要產品為大型連續式鍍膜設備、卷繞式(Roll to Roll)鍍膜設備,以及與IBM共同開發的晶圓暫時貼合及雷射剝離設備。其創新改良的研發成果,更於2014、2015年連續獲得「傑出光電產品獎」的肯定。