AM: 層狀結構是導致塊體NiFe氫氧化物在鹼性析氧反應中不穩定的罪魁禍首

2021-01-20 MaterialsViews
NiFe層狀氫氧化物是非常高效的鹼性析氧反應催化劑。作為鹼性條件下析氧反應的明星材料,很多研究者致力於研究它極低過電位的機理,或者優化製備條件來進一步降低過電位。雖然電催化劑的穩定性與它的活性都是非常重要的催化劑評價指標,NiFe 層狀氫氧化物的穩定性並沒有引起大家的關注,主要的原因是它看起來很穩定。研究人員通常只在溫和的條件下(電流密度幾十毫安/平方釐米,時長几十小時)測試其穩定性。但是這樣的測試條件並不是實際應用條件。實際中,電流密度通常需要500毫安/平方釐米左右,工作時長會需要幾個月甚至幾年,工作溫度也需要提升到比如80度。在這樣的條件下,NiFe 層狀氫氧化物是否還能穩定?  

新加坡南洋理工大學化學與生物醫學工程學院劉彬課題組通過電化學和原位的表徵手段,發現NiFe 層狀氫氧化物的層間位點會貢獻析氧反應活性。但是在鹼性析氧反應過程中,氫氧根離子在層間較慢的擴散速率會導致在層間形成局部酸性環境,從而腐蝕催化劑,導致塊體NiFe氫氧化物不穩定。這一問題在大工作電流密度下會更為嚴重。為了解決這個問題,研究者進一步將NiFe層狀氫氧化物剝離成單層,以促進氫氧根離子在催化劑中的擴散。單層的NiFe 氫氧化物能夠很好的解決其在鹼性析氧反應中穩定性的問題。此項研究發現並解決了鹼性水分解電解槽中析氧反應催化劑的穩定性問題。研究者相信,此項研究有助於水氧化電極材料應用到工業中去。相關論文在線發表在Advanced Materials (DOI: 10.1002/adma.201903909)

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