早在1822年法國人Nicephore niepce研發出了光刻機，而當時的中國還處於道光年間，處於自己"天朝上國"的愚昧思想中，進行著自以為很好的閉關鎖國的國策。殊不知遠在西方的國家早已有了這裡歷史性的改變。隨後在西方不斷的工業革命中，光刻的技術不斷的增強，湧現出荷蘭ASML、日本尼康等光刻機方面的龍頭公司。
其實在上世紀60年代時我國與西方國家的光刻機技術相差並不大。甚至某種程度上還處於領先狀態，畢竟大家都是在60年代開始正式的研發光刻機。但是在80年代，可能是由於經費的原因，也有可能是國家對於電子的不重視。導致當時我國的光刻機研發進度出現了停滯。也正是在這個時期，世界上光刻機有關的技術公司正處於群雄並起的時期，都在努力的搶佔著世界的市場份額。
在進入本世紀後，光刻機技術終於再次被國家重視起來，然而這時我國的光刻機技術已經好多年沒有存進，當時的西方媒體大肆宣揚中國是不可能趕上來的，因為在技術上他們已經落後了30年。上海微電子的研發人員可以說是臨危受命，他們不亞於當年中國的原子彈研發，一切都好像是從零開始。他們背負著國家的期望，同時也是中國自主光刻機領域的一面代表中國自主研發的鮮明旗幟。
自上海微電子成立以後，他們的技術近幾年一直停滯在90nm的水平，要知道這幾年世界上最先進的光刻機已經掌握了5nm的技術。這使得大部分人對於中國光刻機的前景不太看好。但是今日爆出上海微電子已經研發出22nm的光刻機技術，這表明現在光刻機的水平已經達到很高的水平，中國的光刻機研發進程邁出了劃時代的一大步。22nm的光刻機技術已經可以滿足世界中低端市場的需求，這也就是說我國已經具備了世界上極少數國家才擁有的全球光刻機市場的"入場券"。
但也有一些消息稱上海微電子研發出的是28nm。這些消息難分真假，但是不論22nm還是28nm都表明我國長期以來對於光科技領域投入的精力和經濟終於帶來了回報。而且一下躋身世界中上的水平。
上海微電子22nm研發成功的消息是華為美國被制裁之後的大好消息，我國的光刻機技術這某種程度上已經打破了西方相關技術的壟斷，走上了正軌。再者22nm光刻機的問世也是對西方媒體無聲的有力回擊，增強了中國群眾的自信心。
但是在興奮的同時我們也不可以狂妄自大，走道清朝的老路。認不清自我的時候通常距離滅亡也就不遠了。雖然我國22nm成功研發，但是當今世界最先進的技術已經達到了5nm甚至3nm。中國光刻機的研發之路還是任重而道遠。
中國人從古至今都具有迎難而上、腳踏實步的精神。有曾經核潛艇、原子彈和氫彈的有無到有到的經歷，我相信中國的光刻機技術也會在未來實現彎道超車，成功到達世界前列。而這個過程需要我們孜孜不倦的奮鬥。
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