2020-05-22 03:06 來源:澎湃新聞·澎湃號·政務
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據報導,美國科研人員研發出了一款名為「諧振隧穿二極體」的新型氮化鎵基電子器件,其應用於5G技術峰值速率超越了預期。
研究人員表示:「氮化鎵基『諧振隧穿二極體』比傳統材料『諧振隧穿二極體』的頻率和輸出功率都高,其速率快慢的關鍵在於採用了氮化鎵材料。」
該氮化鎵基「諧振隧穿二極體」打破了傳統器件的電流輸出與開關速率的紀錄,能使應用程式(包括通信、聯網與遙感)獲取毫米波範圍內的電磁波以及太赫茲頻率。
作為第三代半導體材料的氮化鎵(GaN),是一種堅硬的高熔點(熔點約為1700℃)材料,具有高頻、高效率、耐高壓等特性,用於製作多種功率器件和晶片。
氮化鎵在半導體材料領域的研究已經持續多年,近期廣為人知,是因為它可以用在充電器中。而充電市場並非氮化鎵功率器件的唯一用武之地,它還應用於光電、 射頻 領域。
非常值得一提的是,在射頻領域,氮化鎵射頻器件適合高頻高功率場景,是5G時代的絕佳產品,將替代Si基晶片,應用在5G基站、衛星通信、軍用雷達等場景。
在政治局會議多次點名之下,5G基站的建設迎來高峰,相應的各種射頻器件、晶片數量和質量都在提升,市場需求旺盛。氮化鎵工藝正在逐步佔領市場,已經勢不可擋。
根據拓璞產業研究院預計,到2023年基站端GaN射頻器件規模達到頂峰,達到112.6億元。再加上衛星通信、軍用雷達的市場,據預測GaN射頻市場將從2018年的6.45億美元增長到2024年的約20億美元。
另外,GaN基紫外 雷射 器在紫外光固化、紫外殺菌等領域有重要的應用價值。疫情當前,中美都啟用了基於GaN的紫外光進行消毒殺菌,相關市場隨之增長。
文稿來源:選股寶、電子發燒友
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原標題:《美研發出新型氮化鎵器件!5G技術峰值速率超預期》
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