為什麼會需要陶瓷靶
在微電子半導體集成電路，薄膜混合集成電路，片式元器件，特別是光碟、磁碟、及液晶平面顯示器LCD等技術領域，都需採用濺射技術以製備出各種不同材質的非金屬薄膜，來達到產品的電光、電磁、壓電等性能要求。這就需要多種與薄膜材料要求相適應的陶瓷濺射靶材。
二
陶瓷靶材的種類
按照化學組成來分類
氧化物陶瓷靶材
硫化物陶瓷靶材
氮化物陶瓷靶材
氟化物陶瓷靶材
矽化物陶瓷靶材
按照應用領域分類
半導體關聯陶瓷靶材、記錄介質陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、超導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等
兩個典型靶材例子
ITO靶
ITO陶瓷靶材是採用納米氧化銦和氧化錫粉混合燒結而成。ITO靶材通過磁控濺射製備導電玻璃，可用於平面顯示器、冰櫃玻璃、電子屏蔽玻璃、高層建築門窗玻璃、汽車、火車及飛機擋風玻璃等。
二氧化鉿靶
HfO2薄膜由於具有高介電常數、高介電強度、低介電損耗、低漏電流及良好的電容一電壓特性、良好的穩定性以及能與基體矽的牢固結合等優點，被認為是最有前途的新型絕緣介質膜。
三
陶瓷靶材的特性要求
純度
陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大，陶瓷靶材的純度越高，濺射薄膜的均勻性和批量產品質量的一致性越好。
密度
靶材的密度不僅影響濺射時的沉積速率、濺射膜粒子的密度和放電現象等，還影響著濺射薄膜的電學和光學性能。靶材越密實，濺射膜粒子的密度越低，放電現象越弱，而薄膜的性能也越好。此外，提高陶瓷靶材的緻密度和強度能使靶材更好地承受濺射過程中的熱應力。
成分與結構均勻性
濺射靶材的微觀結構均勻性對濺射時的成膜速率、沉積薄膜的質量及厚度分布等均有很大的影響。因此，必須做到靶材成分與結構均勻性好，這也是考察陶瓷靶材質量的重要指標之一。
四
中諾新材陶瓷靶
應用於各種單靶濺射系統，多靶濺射系統，離子濺射系統等磁控濺射設備。
國產品牌：北方華創、中科科儀、瀋陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、創世威鈉、金盛微納、泰科諾等；
進口品牌：Kurt J.Lesker 愛發科、丹頓真空等
中諾新材·陶瓷靶材·現貨直供
出庫包裝：內部真空袋真空包裝，外部為定製產品靶材盒，紙箱快遞運輸
儲存方法：收到產品後 ，需儲存於乾燥環境，密封包裝，輕拿輕放，防壓防撞
使用注意：使用前觀察靶材表面是否清潔，帶上乾淨的手套操作，避免直接用手接觸物料，勿被油汙等異物汙染