60歲創辦中微半導體!自研出首臺5nm刻蝕機,確立了技術地位領先

2020-11-22 騰訊網

近兩年，我國半導體行業的發展速度很快，但和美國等科技巨頭相比較，技術仍是落後別人，但是國內產生所自研的技術、設備都能達到世界領先水平。最成功的案例莫過於蝕刻機設備，國內晶片企業所自研的蝕刻機已打破海外的技術壟斷。

很多人都不清楚，蝕刻機的重要性並不低於光刻機，兩者皆是生產高端晶片的重點設備。

但是，我國的光刻機設備一直處於十分落後的狀態，很難讓國內半導體廠商生產出高端晶片工藝。而蝕刻機在我國卻是特別先進，用於下一代新高端工藝晶片生產，也是綽綽有餘。

據了解，中微半導體的所自研的高精度蝕刻機已達到5nm，是國內半導體高端設備的頂尖存在，更是國際半導體行不可忽視的力量。在全球半導體設備企業滿意度調查中，中微半導體公司排進世界第三，這也說明很多客戶對於中微半導體產品是非常認可的。

要知道，中微半導體之所可以取得今日的巨大成就，完全離不開中微半導體創始人尹志堯，尹志堯擁有200多項各國專利和86項美國專利，而在美國矽谷也是具有一定影響力的華人之一。60歲時的尹志堯身披榮譽，決定攜帶團隊回國創業。

尹志堯攜團隊回國，創辦了中微半導體公司，並且展開對蝕刻機設備的研發，僅僅幾年時間，中微半導體企業便自研出第一代介質刻蝕機，該蝕刻機採用單獨操作雙反臺，該設備相比其它蝕刻機效率提升了30％，中微半導體也在市場上獲得了好名聲。

隨著中微半導體的創新技術不斷產出，在一段時間當中，中微半導體毅然遭到了美國技術的封鎖，直到2015年期間，美國才放棄對中微半導體公司的技術封鎖。

中微半導體成立的第11年，中微半導體再次自研出首臺最先進的5nm刻蝕機，自此，中國的5nm蝕刻機在全球確立了5nm刻蝕機技術的地位領先。

現如今的中微半導體5nm蝕刻機設備已和臺積電等晶片代工企業採購，目前，對於國內的晶片產業鏈來看，中微半導體已經可以長久的供應技術維持。

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