國產5nm半導體設備已獲得臺積電訂單 5nm以下技術研發中

2020-11-30 OFweek維科網

除了大家都知道的光刻機,半導體設備生產中還需要各種設備,國內的中微半導體設備公司已經能夠生產高端刻蝕設備,其5nm刻蝕機已經批量生產,用於臺積電的5nm生產線中。

中微半導體上周末發布了2019年財報,全年實現營業收入19．47億元,同比增長18．77%;實現歸母淨利潤1．89億元,同比增長107．51%。

根據該公司年報,中微公司開發的高端刻蝕設備已運用在國際知名客戶65納米到7納米的晶片生產線上。

同時,公司根據先進集成電路廠商的需求,已開發出5納米刻蝕設備用於若干關鍵步驟的加工,並已獲得行業領先客戶的批量訂單——雖然中微沒有明說,但是這家客戶就是臺積電,也只有他們量產了5nm工藝。

目前公司正在配合客戶需求,開發新一代刻蝕設備和包括更先進大馬士革在內的刻蝕工藝,能夠涵蓋5納米以下刻蝕需求和更多不同關鍵應用的設備。

在3D快閃記憶體領域,中微半導體電容性等離子體刻蝕設備可應用於64層的量產,同時根據存儲器廠商的需求正在開發新一代能夠涵蓋128層關鍵刻蝕應用以及相對應的極高深寬比的刻蝕設備和工藝。

此外,中微公司的電感性等離子刻蝕設備已在多個邏輯晶片和存儲晶片廠商的生產線上量產。

根據客戶的技術發展需求,正在進行下一代產品的技術研發,以滿足7納米以下的邏輯晶片、1X納米的DRAM晶片和128層以上的3D NAND晶片等產品的ICP刻蝕需求,並進行高產出的ICP刻蝕設備的研發。

作者:憲瑞

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