電鍍鎳溶液中雜質的影響和去除

電鍍鎳溶液中雜質的影響和去除

2010/8/17/8:14來源：慧聰表面處理網

    慧聰表面處理網：鍍鎳溶液的純淨度要求較高，受外來雜質汙染後，電鍍鎳層質量會有很大的影響。

    例如某廠鍍鎳零件的大電流處泛有黑色小點（鍍件的下面部位及其周邊），而小電流處呈灰黑色（鍍件的中心部位和深凹部位），廠方錯誤地認為是受到有機雜質汙染進行處理，結果鍍鎳層故障未見好轉。其實這種情況並不是溶液中有有機物，因為有機雜質會使鎳鍍層烏亮、結合力明顯降低，而電鍍鎳層表面出現黑點和灰黑色有可能受到金屬雜質的汙染，尤其是受到鉛雜質的汙染可能性更大。現場考察發現鍍槽是老式鉛襯裡槽，液面以下部位發現附有一層黃褐色可擦去的掛霜（鉛的氧化物），此鉛襯裡槽與一塊鎳板斜倚在槽壁，使得上部陽極鎳板正好觸及這塊鎳板的腰部，當電流通過陽極板傳到掉入槽底鎳板上，然後又把電流傳到鉛襯槽，此時鉛襯槽就成了陽極，受到氧化產生黃褐色的氧化鉛，其中部分鉛離子就進入鍍液，產生鍍層發黑的故障。鍍鎳液受鉛離子汙染目前多按電解法處理。先將溶液抽出來，把槽壁和陽極表面的氧化鉛洗刷乾淨，然後將溶液過濾後回入槽內，以0.1A/dm²～0.2A/dm²的電流密度先處理3晝夜，到第4天按正常工藝條件試鍍，故障排除。

    這個實際故障說明電鍍溶液的維護與保養是很重要的，尤其是鍍液雜質的影響、雜質的來源非常複雜，出了故障要慎重考慮故障原因，加強檢查和分析，才能採取相應措施，決不可盲目處理，否則必然會走彎路，電鍍故障得不到及時排除。 

    1 銅雜質的影響和去除

    鍍鎳液中銅雜質含量低可使低電流密度區鍍鎳層灰暗、粗糙；含量高可使低電流密度區鍍層發黑，出現海綿狀鍍層。二般光亮鍍鎳液中銅雜質含量不允許超過0.01g/L；普通鍍鎳液由於pH值稍高，也不超過0.3g/L。對少量銅雜質鍍鎳液，可用電解法去除（pH＝2左右，Dk＝0.1A/dm²～0.3A/dm²）。較多銅雜質可用亞鐵氰化鈉化學方進行處理：   

    2Cu^2＋＋Na₄[Fe(CN)₆]→Cu₂[Fe(CN)₆]↓十4Na^＋  

    去除方法是向故障鍍鎳液中加入溶解好的亞鐵氰化鈉溶液，劇烈攪拌約30min，然後過濾除去沉澱即可試鍍。   

    2 鋅雜質的影響和去除  

    鍍鎳液中鋅雜質在0.02g/L～0.06g/L之間，獲得的電鍍鎳層亮而發脆；當鍍液中鋅雜質含量大於0.06g/L時，低電流密度區鍍層呈灰黑色，更高含量鋅可使電鍍鎳層產生條紋和針孔。鋅雜質也可用電解法處理，但效果不明顯。鍍液中若鋅雜質含量少可用市售掩蔽劑進行掩蔽，如鍍鎳液中含鋅l2.5mg/L～50mg/L，可用0.8mg/L～2mg/L的NT掩蔽劑進行處理。一些新的掩蔽劑既可以掩蔽鍍鎳液中的鋅雜質，又可以掩蔽銅雜質。當鍍鎳液被鋅雜質或鋅雜質和銅雜質同時汙染時，加入這種掩蔽劑，就可以排除鍍鎳液中鋅和錒雜質的影響。   

    當鍍鎳液中鋅雜質含量較高時，可先用CaCO₃（或BaCO₃），提高鍍液pH至5.5左右，再用NaOH[或Ni(OH)₂]提高鍍液pH值至6.2，加熱至65℃～70℃，攪拌30min～60min，靜置後過濾。