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中國學者開發新型飛秒雷射等離子激元光刻技術,可加工石墨烯
中國學者開發新型飛秒雷射等離子激元光刻技術，可加工石墨烯 陸成寬/科技日報 2020-05-11 08:34
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高速飛秒雷射等離子體光刻石墨烯氧化膜
儘管當前存在諸多的技術可以用來在GO表面製備薄膜，如直接組裝、納米壓印、結合電子束蝕刻的平板印刷，這些技術要麼比較耗時、費錢或缺乏靈活性。來自長春光學精密機械研究所的 Jianjun Yang團隊採用超快飛秒雷射等離子體光刻（laser plasmonic lithography (FPL)）技術在140nm厚度的GO薄膜上製備出亞波長光柵。
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氧化石墨烯膜的高速飛秒雷射等離子體刻蝕
(氧化石墨烯)及其還原形式(還原石墨烯)，由於sp3-sp2相互轉換賦予的互補性質，是一種迷人的碳材料，揭示了集成石墨烯器件的可替代性和產業化潛力。適當設計氧化石墨烯和還原氧化石墨烯的微/納米結構，以控制能帶隙和表面化學活性，對於開發戰略性應用具有重要意義。飛秒雷射等離子體光刻(FPL)技術以其高效、高質量、柔韌性和可控性成為製造所需結構的理想技術。然而，由於該方法的理論和實驗探索仍處於起步階段，尚未實現FPL對石墨烯材料的微/納米加工。
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飛秒雷射三維微細加工製作三維光子晶體
但光子晶體在製備方面有一定的難度，下面就來介紹一下利用微納加工技術製作三維光子晶體的方法。 飛秒雷射三維微細加工技術是一項新型三維加工技術，它應用了飛秒雷射技術、高精度三維移動技術和計算機控制技術，可以實現高精度的三維材料加工。其系統構成如圖1所示。
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石墨烯電池「上車」:充電速度堪比加油 新材料要起飛?
午後盤中，石墨烯概念股板塊拉升，華麗家族、寶泰隆拉升封板，德爾未來、新金路、東旭光電等跟漲。石墨是相較於銅和鋁等金屬更好的導熱材料，而石墨烯是已知的導熱係數最高的物質，理論導熱率達到5300W/m · K ，遠高於石墨。石墨烯被發現以來，二維材料逐漸進入人們視野，成為材料領域的研究熱點。
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寧波材料所等研發新型等離激元結構色材料及製備技術
目前，基於模板法或微納加工（光刻、雷射直寫、離子束刻蝕或納米壓印等）手段的等離激元結構色的研發遇到瓶頸，主要是製備樣品面積小、垂直集成兼容性差、材料的應用價值與製備材料所需設備的價值不匹配等，新技術研發勢在必行。其中，採用直接生長法來構建等離基元結構色是有希望的新一代技術，能實現大面積製備，並能實現材料的垂直集成生長。
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中科院研發新型雷射光刻技術:不用EUV 直擊5nm
荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司，他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種新的雷射光刻技術，不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬。
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光電器件微納加工技術——光刻工藝與雷射直寫
(1)微製造 有兩種不同的微製造工藝方式，一種是基於半導體製造工藝的光刻技術、LIGA技術、鍵合技術、封裝技術等，這些工藝技術方法較為成熟，但普遍存在加工材料單一、加工設備昂貴等問題，且只能加工結構簡單的二維或準三維微機械零件，無法進行複雜的三維微機械零件的加工;另一種是機械微加工，是指採用機械加工、特種加工及其他成形技術等傳統加工技術形成的微加工技術，可進行三維複雜曲面零件的加工
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飛秒雷射刻蝕技術將普通金屬變成「完美」的太陽光能吸收器
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石墨烯新型材料對人體和環境都存在潛在危害
石墨烯無疑是過去十年，乃至未來幾十年，所有材料「明星」中最耀眼的一顆。如果說20世紀是矽的世紀，神奇的石墨烯則是21世紀新材料的寵兒。早在去年，泰州巨納新能源有限公司就研製出了全球首臺商用石墨烯飛秒光纖雷射器。同時該雷射器還創造了脈衝寬度最短（105fs）和峰值功率最高（70kW）兩項石墨烯飛秒光纖雷射器世界紀錄。
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我飛秒雷射結合自組裝複合加工技術獲突破
來源：科技日報科技日報合肥8月13日電 （記者吳長鋒）記者從中國科學技術大學獲悉，該校工程科學學院微納米工程實驗室利用飛秒雷射引導毛細力自組裝複合加工方法中國科學技術大學微納米工程實驗室在飛秒雷射複合加工方面開展了長期的系統性研究。在前期工作中，他們通過將飛秒雷射直寫與毛細力自組裝技術結合，開發了新型的飛秒雷射複合加工方法，實現了複雜多層級聚合物結構的製備，並在微物體操縱、微粒製備、微光學、仿毛細血管微通道製備等多個領域開展了應用研究。
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光學精密工程 | 飛秒雷射雙光子聚合方法加工圖案化微透鏡及其...
通過球面波因子的變形設計了不同圖案的微透鏡，利用飛秒雷射雙光子聚合加工技術在光刻膠樣品中加工出圖案化的微透鏡，然後將光刻膠樣品置於顯影液中去除未聚合部分，得到圖案化微透鏡，最後對圖案化微透鏡進行成像測試和光強均一化分析。將LED光源分別置於不同圖案微透鏡的下方，光線透過圖案化微透鏡成功聚焦出光強一致的焦點圖案。
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...雷射光刻技術取得重大突破;① 近日,中國科學院蘇州納米技術與...
完全自主研發，我國超高精度雷射光刻技術取得重大突破；① 近日，中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所張子暘研究員與國家納米中心劉前研究員合作，開發成功新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。該技術使用了研究團隊所開發的具有完全智慧財產權的雷射直寫設備，打破了傳統雷射直寫技術中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，極大地擴展了雷射直寫的應用場景；② 華創證券指出，亞10nm的結構在集成電路、光子晶片、微納傳感、光電晶片、納米器件等技術領域有著巨大的應用需求，這對微納加工的效率和精度提出了許多新的挑戰。然而，長期以來雷射直寫技術很難做到納米尺度的超高精度加工。
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材料學新革命:石墨烯與雷射
2、石墨烯材料有望蘊育出新型寬帶雷射器 德國亥姆霍茲德勒斯登羅森多夫研究中心(HZDR)領導的國際研究小組，在強磁場作用下，對石墨烯中電子的動力學研究有望促進新型寬帶雷射器的研製。 將石墨烯放置在磁場中發現了很多效應，電子在這種體系中的動力學之前並沒有被研究過。研究人員認為他們發現的這個現象具有實現雷射的可能性，而且產生的雷射波長在紅外和太赫茲範圍可以任意調諧。 Winnerl說：「很長一段時間以來，這種朗道能級雷射器被認為是無法實現的。但是現在，利用石墨烯，半導體物理學家的夢想有可能會變為現實。」
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中科院5nm光刻技術另一面：擁有這項光刻技術的企業多家已上市
5nm間隙電極和陣列》的論文，闡述了該團隊開發的新型5nm超高精度雷射光刻加工方法，即通過自主研發的具有完全智慧財產權的雷射直寫設備，利用雷射與物質非線性相互作用來提高解析度。空間光調製器（SLM）是指在主動控制下通過液晶分子調製光波諸如相位、振幅、強度、頻率等的某些特性，從而將光源信號所載荷的信息寫進入射光波之中的器件，基於DMD透鏡縮小投影的光刻技術、雷射直寫技術（Laser Direct Writing）、波帶片陣列光刻技術（Zone Plate-Array Lithography，ZPAL）、表面等離子激元成像技術和幹涉光刻技術等均採用了SLM的原理，其中DMD無掩模光刻技術和雷射直寫是產業化相對成熟的光刻技術
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Nature子刊:石墨烯等離子體激元的光子晶體
本文要點：從連續的石墨烯單層中提出設計和製造用於等離子體激元的光子晶體成果簡介 光子晶體可以精確控制集成光學電路中的光傳播，並且可以模仿高級物理概念。本文克服了普通的光子晶體不適合進行操作中的開/關控制的限制，並證明了表面等離振子極化子的可調諧二維光子晶體。平臺由一個連續的石墨烯單層組成，該石墨烯單層集成在帶有納米結構的柵極絕緣體的背柵平臺中。
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一文了解雷射直寫技術在金屬微結構製備中的應用
在微電子器件領域，隨著新型半導體材料如石墨烯、碳納米管的微納器件的研究快速展開，金屬微納電極或微納導線等複雜導電功能結構的可控制備技術成為關注的重點之一。在光電子器件領域，金屬材料可以被塑造為納米尺寸維度的可設計性結構，涉及和光相互作用的新領域，等離子體材料領域例如表面增強拉曼檢測（SERS）、等離子體天線和等離子體電路等。
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中國科學院開發的5納米超高精度雷射光刻技術
中國科學院蘇州研究所和國家納米中心在《納米快報》上發表了題為「製備5納米間隙電極的超解析度雷射光刻技術」。「超解析度雷射光刻技術在5 nm納米間隙電極和陣列上」的研究論文介紹了該團隊開發的新的5 nm超高精度雷射光刻處理方法。
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蘇大維格公布最新 3D 直寫光刻技術:實現光刻膠 3D 形貌可控制備
光刻技術是指在短波長光照作用下，以光刻膠（光致抗蝕劑、photoresist）為介質，將微納圖形製備到基片上的技術。以半導體工藝為例，半導體器件由多種專用材料經過光刻、離子刻蝕、拋光等複雜微納加工流程而完成。光刻設備是半導體工藝中最核心的裝備，在掩模版製備、晶片製造和封裝環節都使用了光刻技術。
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中科院5nm雷射光刻技術到底是什麼？
這幾天，媒體上超嗨的一條，就是中科院5nm雷射光刻技術突破，下面量子菌給你專業解讀這篇論文。本來這篇研究論文，是微納加工領域裡的一個進展，實驗室研究，和工業界沒啥關係，誰知道題目裡的「lighography」 一下子撓到了某些媒體的某點。