2018-2019年度，微電子所韋亞一研究員率領先導中心計算光刻研發中心團隊與上海積塔半導體有限公司，圍繞集成電路先進光刻製造光學鄰近效應修正開展了深度合作。
合作中，韋亞一團隊與上海積塔半導體就實際生產面臨的光學臨近修正問題，根據其工藝和產品特徵，開展了光源優化、OPC建模、版圖優化以及矽驗證等工作。目前已幫助積塔半導體完成5輪OPC工作並順利流片，直接支撐了積塔半導體在0.18納米技術節點的量產工藝研發，同時幫助積塔半導體建立OPC研發團隊。
本次合作是微電子韋亞一團隊繼與中芯國際、長江存儲等國內集成電路製造企業合作之後，再次對實際製造產業企業進行指導，幫助企業建立光學臨近效應的修正的流程，助其突破關鍵技術實現量產。
上海積塔半導體有限公司擁有5英寸、6英寸、8英寸晶圓生產線，專注於模擬電路、功率器件的製造，是國內最早從事汽車電子晶片、IGBT晶片製造的企業。
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