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自主可控領域又有新突破!國產刻蝕機入選全球首條5納米晶片產線...
據媒體報導，中微半導體設備（上海）有限公司自主研製的5納米等離子體刻蝕機最近經臺積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。臺積電計劃明年進行5納米製程試產，預計2020年量產。大陸市場的半導體設備需求愈發強勁，但大陸市場主要依賴進口，自給率不足。《國家集成電路產業發展推進綱要》等一系列政策的出臺將會推動設備全面國產化的進程，國產設備將會迎來巨大的機遇。公司作為國內高純工藝業務的龍頭企業，將率先受益於國產化浪潮。
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中微突破了「卡脖子」技術,讓「上海製造」躋身刻蝕機國際第一梯隊
5納米，相當於頭髮絲直徑（約為0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶片上的最小線寬。臺積電計劃明年進行5納米製程試產，預計2020年量產。最近，中微半導體設備（上海）有限公司收到一個好消息：其自主研製的5納米等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。刻蝕機是晶片製造的關鍵裝備之一，中微突破了「卡脖子」技術，讓「上海製造」躋身刻蝕機國際第一梯隊。
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科創板受理企業透析|中微半導體:7納米晶片刻蝕機第一梯隊
3月29日，又有9家公司的科創板上市申請獲上海證券交易所受理，中微半導體設備（上海）股份有限公司在列。中微半導體生產的是製造晶片的關鍵設備——刻蝕機。由於西方國家對刻蝕機產品出口中國進行管制，一些最先進的刻蝕機無法第一時間出口到中國。
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大國重器之國產刻蝕機:中國晶片燎原火 - 刻蝕機,半導體,中微...
其中有代表性的是上海中微半導體公司和北京的北方華創科技公司。他們在國產刻蝕機設備技術突破方面有重要的貢獻。在2017年，中微半導體研發的7nm等離子體刻蝕機已經在國際一流的集成電路生產線上量產使用，而2019年12月，中微半導體CEO尹志堯也曾透露，他們5nm蝕刻機已經得到了臺積電認可，將用於臺積電5nm晶片的產線。
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你對中微半導體有限公司宣布已經掌握5納米的半導體技術有什麼看法?
中微取得的成就無疑是令人興奮的，但也並不能誇大其詞，不符合客觀實際。 2017年3月，中微半導體設備公司宣布將在當年年底正式敲定5nm刻蝕機。在半導體設備行業被歐美日霸佔的情況下，一家中國公司能有這樣的產品是非常了不起的。
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國內最具優勢的半導體設備——刻蝕機的突圍
前一段時間《每日財報》用系列文章對國內半導體行業的現狀做了介紹，在設備領域重點剖析了技術難度最大的光刻膠，今天就帶大家深入了解國內最具優勢的半導體設備——刻蝕機。在晶片的製造過程中，有三大關鍵工序，分別是光刻、刻蝕、沉積。這三大工序在生產的過程中，不斷的重複循環，最終製造成為晶片。而在這三大關鍵工序中，要用到三種關鍵設備，分別是光刻機、刻蝕機、薄膜沉積設備。
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國產5nm半導體設備已獲得臺積電訂單 5nm以下技術研發中
除了大家都知道的光刻機,半導體設備生產中還需要各種設備,國內的中微半導體設備公司已經能夠生產高端刻蝕設備,其5nm刻蝕機已經批量生產,用於臺積電的5nm生產線中。中微半導體上周末發布了2019年財報,全年實現營業收入19．47億元,同比增長18．77%;實現歸母淨利潤1．89億元,同比增長107．51%。
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中微造出5納米蝕刻機,對中國半導體影響有多大?
中國刻蝕機歷程在光刻機領域幾乎壟斷這個行業的霸主是一家荷蘭的公司，叫阿斯麥那麼對於刻蝕機來說呢？這裡介紹下中國中微半導體5nm蝕刻機。2004年當時已經60歲的尹志堯離開矽谷從事了二十多年的半導體行業，帶隊回國創業，創辦了上海中微半導體設備公司。在2017年，該公司就成功研製了5納米等離子刻蝕機。這是第一臺國產的生產半導體晶片的設備，同時也是世界上第一臺5納米蝕刻機。
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國產刻蝕機的「突圍」之路
從公開信息可以看到，中國刻蝕設備的工藝節點已經達到5nm，並得到臺積電的驗證，追趕上主流半導體的步伐；在市場表現上看，國際大廠在中國市場的份額從最初幾乎壟斷到2019年下降至77%；北方華創的矽刻蝕機、金屬刻蝕機，中微公司的介質刻蝕機在國內均已牢牢佔據一席之地，並成功進軍國際市場。
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中微5納米等離子體蝕刻機已用於臺積電產線
XtuEETC-電子工程專輯半導體設備的創新和進步，是實現這個萬億倍縮小的關鍵，在加工微觀結構上，除了大家都知道的光刻機，還需要蝕刻機等各種設備。近日據中微半導體設備公司（AMEC）發布的2019年度業績說明，國內設備廠商已經能夠生產高端刻蝕設備，其5納米刻蝕機已經批量生產，並用於臺積電的5納米生產線中。
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「上海製造」入選首條5納米晶片生產線
5納米，相當於頭髮絲直徑（約0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶片上的最小線寬。臺積電計劃明年進行5納米製程試產，預計2020年量產。最近，中微半導體設備（上海）有限公司收到一個好消息：其自主研製的5納米等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。
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領先世界,中國造出5nm刻蝕機,已供貨臺積電
根據臺積電的工藝路線圖，2020年就要量產5nm工藝，而中微半導體的5nm蝕刻機已經打入臺積電的供應鏈。這也是中國第一次在晶片製造設備上領先世界。目前從事刻蝕機研發的企業共有北方華創和中微。 中微主要攻關的是介質刻蝕工藝和矽刻蝕工藝，中微半導體於2004年由尹志堯博士帶領的海歸人才創辦，尹志堯博士中國科學技術大學化學物理系，曾任職於中科院蘭州物理化學所，後來前往加利福尼亞大學洛杉磯分校留學，在矽谷Intel公司、LAM研究所、應用材料公司等電漿蝕刻供職16年。
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取得突破!中微攻克5納米蝕刻機技術,通過臺積電的認證!
取得突破！中微攻克5納米蝕刻機技術，通過臺積電的認證！各位小夥伴是否知道，除了光刻機對於晶片生產十分重要之外，還有蝕刻機也很重要，我國中微公司早在三年前就已經對外宣布已經攻克了5納米蝕刻機的製造技術，現在中微半導體研製的5納米蝕刻機通過臺積電的認證。
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國產晶片崛起,中微半導體CEO尹志堯:5nm蝕刻機已獲臺積電認可
國產晶片的崛起之路可謂是艱辛，但是成果確實有目共睹的。除了在晶片上面有了不少成就，在製造元件上也已經有了很多的技術成果。中微半導體的蝕刻機就是其中之一。臺積電的工藝路線，明年第三季度就要試產5nm工藝，這一代工藝會全面應用EUV光刻技術。
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半導體設備行業專題報告:刻蝕機走在國產替代前列
自 20 世紀 60 年代到 21 世紀的前十幾年，摩爾定律完美詮釋了集成電路的發展歷程。摩爾定律的背後是半導體設備的不斷精進。集成電路多以單晶矽為基底材料，成千上萬的元器件和導線經過一些列工藝被「雕刻」在矽片上，完成這些「雕刻」步驟的工具就是半導體設備。「雕刻」精度的提升帶來元器件尺寸的縮小，現今的晶工藝尺寸是以納米級計量的。
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臺積電都採購了國產5nm蝕刻機,國產光刻機要多久?
但是荷蘭ASML公司的三大股東卻是英特爾、三星和臺積電，他們三家享有優先提貨權，而且需要用到美國的技術。相比之下，中國目前最好的的光刻機廠商，是上海微電子公司，他們的90納米光刻機已經量產，而28納米的光刻機正在緊張攻克中，預計年底拿出樣機。
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中微宣布5nm刻蝕機,臺積電第一個下單,ASML急眼了
蝕刻機、MOCVD 與光刻機一併被稱為半導體工藝三大關鍵設備，中芯國際投入11億美元之巨向美國的泛林和應用材料購買的，主要就是蝕刻機、MOCVD設備及其工藝流程控制。光刻機負責「畫圖」，蝕刻機負責「雕刻」，技術要求一樣，光刻機負責將電路圖複製到矽晶片，剩下工作就是蝕刻機通過腐蝕的方法將電路圖裡多餘的矽晶片去掉，只留下有用的電路部分。
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中微半導體的5nm等離子體蝕刻機將用於臺積電全球首條5nm工藝生產線
不過眾所周知，半導體工藝是一項集大成的高精密科技，新工藝也並非臺積電自己完全搞定，而是依賴整個產業鏈的設備和技術供應，比如大家比較熟悉的光刻機，就普遍來自荷蘭ASML。 據了解，在臺積電的5nm生產線中，就將有來自深圳中微半導體的5nm等離子體蝕刻機，自主研發，近日已經通過了臺積電的驗證，將用於全球首條5nm工藝生產線。
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中微已製造出5納米蝕刻機,對中國半導體領域影響深遠
時間一轉到去年年底，尹志堯先生在上海舉辦的一次投資論壇上指出，中微半導體研製進度是和臺積電的路線保持一致。目前臺積電在3納米技術上已有一年多的技術積累，從側面上可以反映中微在掌握5納米技術後已經開始著手準備3納米工藝。 目前由於中微半導體研製的5納米蝕刻機早已通過臺積電的認證，那麼在臺積電生產5納米級晶片時，生產線上的部分蝕刻機將會是中國製造。
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北京亦莊:集成電路國產設備走向「前臺」
編者按：隨著專項的順利實施，集成電路生產製造關鍵設備實現國產化並為國產設備在中國集成電路產業鏈中的大面積應用打開了局面。 截至今年11月，中芯國際北京廠使用國產設備加工的12英寸正式產品晶圓加工突破1000萬片次。這標誌著國產設備技術和市場競爭力邁上了一個新臺階，也意味著在以精密、嚴苛著稱的集成電路生產領域，國產設備正通過進口替代，穩步走向「前臺」。