為斷芯危機中有機會!中企光刻機迎好消息,給華為帶來巨大轉機

文/山峰

晶片生產離不開光刻機，日媒曝光中國企業與日本科技巨頭聯合研發光刻機的消息，引起全球高度關注，有專家分析稱，這將給遭美國斷供的華為帶來轉機。業內消息人士稱，為推進超紫外線EUA光刻設備的研發進程，中國企業已計劃提供資金，與日本兩大巨頭尼康和佳能合作研發光刻機。我們國家的最終目標是建立一個超級企業，像三星、英特爾這樣的可以自己研發晶片。中企光刻機迎來喜訊，華為迎來了大轉折。

由於近兩年來華為一直受到美國的打壓，在西方的制裁下，華為無法將自己的晶片委託給第三方晶片製造商生產，其結果就是，即使華為擁有先進的晶片設計能力，也無法將晶片生產出來。而在這樣的背景下，我國為了整體的晶片產業著想，只能投入巨資建造自己的晶片生產線。

作為世界上最頂級的生產設備之一，光刻機目前只有少數幾個國家掌握其生產技術，尤其是7納米以上的高端光刻機，更是只有荷蘭的 ASML能夠生產。而荷蘭ASML也並非完全依賴 自己研發光刻機， ASML的成功實際上是許多西方國家共同努力的結果，光刻機背後的許多核心部件都是國外企業提供的，例如來自德國的蔡司鏡頭、來自美國的光源設備以及來自日本、美國、德國等多個國家的技術。

其中有許多西方國家對我國的核心零部件進行限制出口，這意味著，即使我國企業有意研發光刻機，但如果在短期內不能獲得某些核心零部件，全部核心零部件都要自己研發，這一過程將會非常漫長，而且也不一定能取得很好的效果，要達到荷蘭ASML這樣的水平就更加困難。正是由於光刻機技術的研發難度大、周期長，中國的一些具有光刻機研發能力的科研機構或企業正在加緊攻克技術難題。歸根結底，近幾年來我國在光刻機研發方面取得了一定的成果，已成功研製出28納米光刻機。

這次9納米光刻機的重大創新，讓我們打破了國外的技術壟斷，在這個全新的技術領域裡，我們的光刻機從材料到軟體再到光機電部件都有了長足發展，使我們的光刻機技術又邁出了新的一步。可見，近幾年來我國光刻機的研究與開發已取得了比較可喜的成績，雖然與國際先進水平仍有較大差距，但至少這一差距正在逐步縮小。

我們堅信，未來幾年，我國的光刻技術一定會有突破，到時候也許我們的光刻技術有可能達到世界先進甚至領先的水平，在這樣的情況下，華為可以使用國產光刻機，而不必擔心被西方國家限制。