國內半導體一直都是我們的軟肋,晶片行業基本上已經被日韓和歐美國家給壟斷了。中國也是晶片進口大國,2019年國內的晶片自給率僅僅才達到百分之30,換句話說,國內有70%的晶片都需要依賴於進口,2019年的晶片進口金額就已經達到了3040億美元。不僅錢被別人賺走了,而且主動權也掌握在別人的手裡,這是相當危險和被動的!
果然,美G抓住了國內半導體這個軟肋,對華為進行了晶片斷供,雖然華為能夠進行晶片設計,而且晶片設計能力是全球數一數二的,可是卻無法晶片製造,這相當於紙上談兵,空有一身武藝,無處施展。也正是因為美G對華為的晶片禁令,而國內半導體行業突然有了危機意識,過度依賴進口相當於把自己的命脈加到了別人的手裡。
自此,國內半導體行業終於開始加速布局,自建100%全國產的晶片產業鏈已經不是華為的目標,也成為了國內半導體的基本目標。而且國家也明確的制定了2025年國內晶片自給率要達到70%的目標。國內半導體企業也都牟足了勁,全力以赴!作為國內半導體行業中的種子選手的中芯國際,最近也傳來了兩個好消息,中芯國際太牛了!
好消息一:7nm工藝晶片跟臺積電之間的差距越來越小
目前在全球範圍內,可以製造7nm工藝替代產品的企業只有兩家,一家就是臺積電,一家就是三星。而且要製造7nm晶片是需要ASML公司生產的EUV光刻機的,很顯然中芯國際現在是無法拿到設備的,而大部分的EUV光刻機就被臺積電、三星和英特爾內部消化了。為了可以在7nm工藝方面實現突破,中芯國際就選擇了N+1工藝,完全可以達到7nm工藝製程。
而且N+1工藝現在已經進入了客戶導入產品的階段,並且實現了小批量的試生產,跟14nm的晶片性能相比,它的性能可以達到20%的提升。另外在2021年的時候,中芯國際還會推出N+2工藝,只不過因為沒有EUV光刻機,所以現在N+1和N+2都不會採用EUV工藝,直到國內有了EUV光刻機的設備之後才會採用。
好消息二:14nm晶片良品率達到95%
14nm工藝在晶片製造行業其實是相當重要的一個分界線,能夠製造28nm工藝晶片的企業不少,但是能夠製造14nm工藝晶片的企業,在全球範圍內也僅僅只有三家,也就是ASML背後的金主,三星Samsung、臺積電tsmc以及英特爾Intel。如今中芯國際14nm晶片的良品率已經達到了95%,這就意味著國內14nm晶片的良品率已經符合了行業標準,如果中國國際的14nm晶片可以大量生產的話,那麼對臺積電肯定也會造成很大的衝擊。
在這麼短的時間裡,中芯國際就可以有這麼大的突破,這對於國內半導體行業來講是一個巨大的進步!相信美G也會驚嘆於中國速度,不知道美G會不會後悔對華為進行了晶片斷供呢?畢竟等到國內晶片可以自產自足的時候,美G將會損失慘重!對此,你怎麼看呢?歡迎評論留言!