安東帕SAXSpoint 2.0多孔膜表徵

2020-09-10 安東帕AntonPaar

使用Tosca 400和SAXSpoint 2.0系統來表徵垂直基底的多孔結構聚合物薄膜。

相關性：聚合物研究、膜、多孔材料

Anton Paar –讓膜研究更易進行

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納米孔膜具有高超的潛力，如：現代電池和能量轉換應用，以及水處理領域。這類樣品的孔隙結構的表徵對它的性能是極其重要的。這裡我們展示的是對厚度為100 nm，垂直矽基底的多孔高分子膜的表徵。

掠入射小角X射線散射(GISAXS)是一種用於分析納米尺度表面結構的高度靈敏的測量方法，給出一個大樣品面積上的平均信息。

原子力顯微鏡(AFM)能提供局部表面結構的高空間解析度的直接可視信息。

這使得兩種方法在納米結構表面表徵上完美互補。

Fig. 1: 納米多孔PE/PEG薄膜水平方向一維切面的二維GISAXS圖樣(左)和 AFM形貌圖(右)。

左邊的圖是用SAXSpoint 2.0系統研究結構的 GISAXS圖樣。從反射圖上計算得到孔-孔間距大約50 nm。從相應的反射位置(見插圖)看，孔的六方排布可見。

右邊的圖顯示的是相應的AFM形貌圖，使用Anton Paar新的AFM Tosca 400獲得。它證實了孔是六方排序，周期性50 nm和平均孔直徑為20 nm。

樣品由汪勇(南京工業大學)提供

Tosca 400 – 高度自動化工業AFM提供卓越的圖片解析度和高樣品通量。

SAXSpoint 2.0 – 多用途點準直SAXS儀器，提供高解析度和光通量，使得它成為膜研究的完美工具。

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