晶片大躍進?日企稱將推出1nm晶片工藝

2020-12-03 虎跑團

時間曾經到了2020年的尾聲，但是四十年前的摩爾定律還沒有收場。

即日據日媒報導，只管正處於新式冠狀病毒的暗影下，日本ITF仍於11月18日在日本東京舉辦了網上公布會。

集會上，IMEC公司首席實行官兼總裁Luc Van den hove開始刊登了主題演講，說明了公司鑽研概略。

他誇大，IMEC經歷與ASML公司慎密同盟，將下一代高分辯率EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術貿易化。

值得留意的是，IMEC公司還誇大要連續把工藝範圍收縮到1nm及如下。但是，只管該公司的講話頗有「人有多鬥膽，地有多大產」的意味，但物理極限真相是物理極限，當前人們的共鳴是矽基晶片的極限在3nm擺布。

即便壯大如其同盟方ASML以及其角逐敵手TSMC（臺積電），當前也僅僅將貿易化晶片製造線推動到了5nm，而究竟上就連這個「5nm」都值得洽商——TSMC 5nm的面世畢竟技術當先或是強行定名，生怕連臺積電本人都不敢說。

比年來，跟著臺積電、三星和英特爾漸漸獨霸住晶片製造的話語權，包含日本在內的很多半導體公司接踵退出了工藝小型化，宣稱摩爾定律曾經走到了止境，大概說老本過高，無利可圖

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