想要知道電晶體如何安裝的,我們就要知道電晶體的工作原理,我們都知道,計算機只能識別二進位0和1的指令,也就是開和關,在晶片還沒有誕生的時候,我們只能通過模擬電路的開關期間來實現。當然,這根本不可能執行強大的邏輯運算,只能執行簡單的或、與、非等邏輯運算的處理。
隨著納米科技的發展,集成電路被推上發展風口,矽基晶片的體積變得越來越小,裡面包含的電晶體也越來越多,根據摩爾定律,意味著性能也變得越來越強。拿目前蘋果公布的A13處理器來說,裡面就包含85億個電晶體,根據蘋果稱,該處理器的運算性能能達到1萬億次/秒,目前在售的手機晶片中,屬於頂端的存在。
那麼一個只有1cm平方大小的晶片,是如何上億的電晶體安裝上去的,在很多人來看覺得這是一個不可思議的事情。但是在了解了製作工藝後,大家可能覺得就沒有那麼複雜了。
晶片的製作要先從最簡單的沙子說起,晶片中需要用到的晶圓就是由沙子中提煉而成的,而選擇沙子的原因主要是沙子中的矽含量非常高,而且也是最經濟實惠的一款材料(這也解答了很多網友疑問的,為什麼美國人那麼聰明,怎麼想到用沙子來做晶片的原因了,其實都是通過不同的測試得出來的結論)。
通過將沙子的雜質和其他物質,比如鈣鎂鋅等剔除之後,再通過碳氧化工藝可以提煉出一個比較純淨的矽,而想要得到一個想要製作晶片的矽棒,就必須多次提煉,使其的矽純度達到99.999%以上,並且經過嚴格工藝的打磨,最後形成一個圓形的矽棒。
提純之後的矽棒想要變成矽圓,我們需要將其進行切片,切片加工完成之後的就是矽圓,單個矽圓根據大小不同,最大的可以達到450mm。也就意味著單次能夠生產出更多的晶片。
拋光的目的是為了能讓晶圓的表面更加光滑,這也是為了保證後面晶片加工出來的合格率,一般晶圓的表面平整度在0.2nm以上,表面比鏡子還要亮。打磨完成之後就需要滴上光刻膠了,這樣的目的是為了讓曝光的地方通過紫外線的照射後更容易溶解。
光刻就是將設計好的電路通過掩蓋板照射在晶圓上。用透鏡將電路圖縮小,這種方式類似於投影的方式,只不過這個是縮小形式的。
光刻完之後,通過顯影工序就能將被光刻膠照射過的地方衝洗掉,沒有被照射過的地方就會被完整地保留下來。
接下來就是刻蝕了,在這個步驟中沒有被光刻膠保護的氧化矽和氮化矽部分會被腐蝕掉。在進行多次腐蝕之後,會填入一層二氧化矽作為絕緣層,這個整個電路就被蝕刻出來了。
用同樣的方法,在圓晶上塗上光刻膠,再利用光刻、顯影技術,把需要離子注入的部分空出來,其他部分通過光刻膠保護。通過離子束注入到裸露的矽基底上(上圖灰色部分),從而改變矽表面的極性。
以上工序完成後,電晶體就算完成了,但是想要這些電晶體工作起來,就需要將這些線路連接起來,通過注入金屬鎢或者銅作為導線填充到晶片的電路中。如果這個晶片是多層的,那麼可能要重複多遍上面的工藝才能製作出來。
最後就是將晶片進行切割得到die,最後通過測試之後,將這些die進行分類,不良品需要丟棄,而有缺陷的產品可以通過屏蔽核心或者其他方式進行分類。屏蔽核心後繼續測試合格的將按照不同的性能和功能進行出售。