前言:今年六月份在日本舉行的Symposium on VLSI Circuits上,加州伯克利(UC Berkeley)和麻省理工學院(MIT)一篇共同撰寫的論文,發布了他們最新的基於65nm CMOS工藝的基於光學相位陣列(OPA)的雷射雷達晶片。
今年六月在日本召開的學術會議Symposium on VLSI Circuits上,加州伯克利(UC Berkeley)V. Stojanović研究組和麻省理工學院(MIT)Michael Watts研究組一篇共同撰寫的論文,發布了他們最新的基於65nm CMOS工藝的基於光學相位陣列(OPA)的雷射雷達晶片。我們來看看他們這款晶片的新亮點吧。
工藝平臺:65nm CMOS平臺+193nm SOI矽光子平臺,300mm(12寸)晶圓流片,通過氧化物鍵合(Oxide Bond)的辦法將光和電做集成。由於光電晶片分開製作,光子晶片上集成了其他材料,例如鍺(Ge)、氮化矽等。鍺主要用作探測器,製作的片上探測器可以達到0.9A/W的響應。
技術內容:該晶片集成了調頻連續波測距(FMCW)和OPA掃描成像。探測器實現了片上集成,調頻雷射依然是通過光纖耦合到片上。雷射的發射效率約為24%,掃描角度16度,天線陣列尺寸為500um*254um,2um的天線周期(Pitch)比以往更為緊湊,使得旁瓣抑制的效果相比以往也有改善。掃描角度可以通過更緊湊的天線距離得到擴大。
FMCW測距方面,用的是一個外腔雷射,通過注入電流的調製實現頻率三角波調諧(Chirp rate 9THz/s)。光斑發散角FWHM為0.15度/0.3度,對應100m處衍射極限解析度為26cm/52cm。
系統層面的參數可以看到的是測距解析度是3.3cm。
最後附上一張近幾年的一些矽光OPA方案的對比參數表:
點評:由於OPA雷射雷達在性能上的巨大吸引力,矽光OPA方案在MIT、Stanford等著名研究組的推動下,系統工藝層面每年都在往前發展。但是基礎性的問題卻一直得不到明顯突破,包括今年發布的這些研究成果。我們可以看到幾點問題依舊存在:
1. 矽片上集成雷射依然沒有突破,所用的光源依然是片外耦合進去,整體出射效率還是低於30%;
2. 矽的相位調製還是採用了傳統熱調製,速度慢的問題依然存在;
3. 雙軸掃描依然要依賴調頻光源來實現;
4. 天線間距依然較大,給掃描角度和旁瓣抑制帶來影響,天線間距進一步減少會受限於矽波導的Cross talk。
5. FMCW實現成本不菲,單是窄線寬的外腔雷射器官方售價就兩萬多塊人民幣。
參考文獻:
1. P. Bhargava, Symposium on VLSI Circuits (2019)
2. T. Kim etc. ISSCC (2019)