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三星電子展示3D晶圓封裝技術 可用於5納米和7納米製程
【TechWeb】8月14日消息，據臺灣媒體報導，三星電子成功研發3D晶圓封裝技術「X-Cube」，稱這種垂直堆疊的封裝方法，可用於7納米製程，能提高該公司晶圓代工能力。
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中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?
看到這個消息，不同的人有不同的反應，有的人認為這個技術上的突破只是處於實驗階段，沒有實際性的應用意義，離量產還有很長的路要走，甚至認為這種路線不可能用於工業生產，只能用於實驗室。但我認為中科院5納米光刻機技術的研發成功，對我國光刻機的研發具有重要的意義。中科院所研發的這種5納米光刻技術跟傳統的光刻技術有很大的差別，傳統的光刻機技術是通過縮短波長來達到提高光刻精度的目的。但是根據摩爾定律，光刻機每縮小一個波長其技術難度都大大增加，目前全球最先進的光刻機可以實現7納米光刻，通過工藝上的改進之後，可以實現5納米甚至3納米的光刻。
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天數智芯成功點亮7納米製程GPGPU雲端訓練晶片
來源：證券日報本報記者李喬宇2021年1月15日，上海天數智芯半導體有限公司宣布，公司旗艦7納米通用並行（GPGPU）雲端計算晶片BI已於近日成功「點亮」。這是國內第一款全自研、真正基於GPU架構下的7納米製程GPGPU訓練晶片，量產後將廣泛應用於AI訓練、高性能計算（HPC）等場景，服務於教育、網際網路、金融、自動駕駛、醫療、安防等各相關行業，賦能AI智能社會。據天數智芯聯合創始人、首席科學家鄭金山介紹，BI產品於2020年5月流片、11月回片並於當年12月成功「點亮」。
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中科院研發者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
《納米快報》（Nano Letters）上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究論文，介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
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32納米製程技術原理詳解
32納米製成技術是基於45納米技術的改良版本，總體歸納起來組要有以下三點。1：32納米製程技術的基礎是第二代高k+金屬柵極電晶體。英特爾對第一代高k+金屬柵極電晶體進行了眾多改進。在45納米製程中，高k電介質的等效氧化層厚度為1.0納米。
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【替代】三星電子成功將氟化氫替代品投入製程;
三星電子成功將替代品投入製程；2.新思：半導體行業最重要的資產是信任，信任需要贏得；3.英特爾3D堆疊處理器性能曝光，5核心設計配備Gen 11核顯；4.研調：光寶科、東芝合併案綜效有望1加1大於2；5.旺季需求強勁！
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全球半導體製造加速切換至5納米工藝製程 多款5納米晶片產品陸續發布
全球半導體製造加速切換至5納米工藝製程，多款5納米晶片產品陸續發布。隨著A14發布，晶片製造廠商5納米晶片生產進入高潮，目前5納米晶片主要由臺積電、三星生產，產能在大客戶需求下處於極為緊張。由於臺積電5納米製程更為先進，未受到9月15日起停止向海思出貨影響，產能被蘋果、高通、AMD等瓜分。
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消息稱臺積電5nm產能正持續擴充中 對於3納米製程布局相當積極
1 月 5 日消息 據媒體經濟日報報導，臺積電將把今年的資本支出增加到 220 億美元再創新高，比去年大增近三成。此外，臺積電將持續發展 3 納米及以下先進位程。 臺積電錶示，將在下周四（14 日）的財報會上公布去年資本支出實際金額與今年資本支出規劃。
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發表5納米雷射光刻研究後刪文,中科院回應爭議
綜合媒體12月2日報導，這篇論文發表在國際知名期刊《納米快報》。中科院官網當時還報導稱，研究團隊針對雷射微納加工中所面臨的實際問題出發，解決高效和高精度之間的固有矛盾，開發的新型微納加工技術在集成電路、光子晶片、微機電系統等眾多微納加工領域展現廣闊的應用前景。
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2020年7納米製程:摩爾定律的終點站
Globalfoundries最近在紐約北部建設的工廠花了60億美元;2014年晚期新的研發設施也將完工，將它加進去總計要80億美元。摩爾定律由英特爾聯合創始人戈登-摩爾(Gordon Moore)提出，意思是說：當價格不變時，集成電路上可容納的電晶體數目，約每隔18個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。換言之，每一美元所能買到的電腦性能，將每隔18個月翻兩倍以上。
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IBM展示32納米High-K製程 性能比45納米提升35%
IBM展示32納米High-K製程 性能比45納米提升35% IBM及其技術聯盟廠商，包括英飛凌(Infineon)、意法半導體(ST)、特許半導體(Charter Semiconductor)、飛思卡爾(Freescale)、三星(Samsung)和東芝(Toshiba)日前宣布，已在IBM位於美國紐約州East Fishkill的300mm晶圓廠，成功展示了
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不受摩爾定律限制,ASML 開始設計1納米製程曝光設備
根據媒體報導，日前在日本東京舉行了ITF論壇。在論壇上，與荷蘭商半導體大廠艾司摩爾（ASML） 合作研發半導體曝光機的比利時半導體研究機構IMEC正式公布了3納米及以下製程的在微縮層面的相關技術細節。
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臺媒:臺積電全部代工蘋果A14處理器 採用5納米製程
12月30日上午消息，據臺灣地區媒體報導，供應鏈業者指出，蘋果公司下一代處理器A14全部由臺積電代工，採用5納米製程，明年第二季度末開始量產，佔臺積電三分之二的5納米產能。
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全球最小的SRAM晶片,未來將可適用於先進的5納米製程技術上
打開APP 全球最小的SRAM晶片，未來將可適用於先進的5納米製程技術上 李倩 發表於 2018-06-01 14:10:02
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「上海製造」入選首條5納米晶片生產線
5納米，相當於頭髮絲直徑（約0.1毫米）的二萬分之一，將成為集成電路晶片上的最小線寬。臺積電計劃明年進行5納米製程試產，預計2020年量產。最近，中微半導體設備（上海）有限公司收到一個好消息：其自主研製的5納米等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用於全球首條5納米製程生產線。
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全球首個7納米晶片在杭州誕生 用於區塊鏈超算設備
原標題：生產、設計有落差，中國芯的路還很長 最近嘉楠耘智火了，原因是該公司研發成功量產了全球第一款7納米晶片。甚至有媒體稱，一個中興倒下去，千千萬萬個中國晶片公司站起來，這是杭州人的驕傲，是全國13多億人的驕傲。
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GF宣布將在既有14/12納米FinFET製程節點基礎上,向外擴展應用領域
但在這四大廠商轉進16/14納米先進位程過程中，又以GF歷經最多波折，但最終，GF尋求向三星取得14納米製程授權，更成功將該節點製程落實在自家晶圓廠。隨後包括超微(AMD)旗下RyzenCPU與PolarisGPU系列產品的成功，均可說是GF旗下晶圓廠14納米製程終於達到良率開出順利，並且改善製程足以提供更明顯改善給超微第二代RyzenCPU。
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三星與臺積電的工藝之爭再掀高潮:盤點兩家10納米以下工藝及EUV方案
8納米低功耗晶片，產品主要用於計算機網絡、智慧型手機、汽車、以及日益成長的物聯網市場等。2010年設立研發中心，旨在為系統LSI部門開發高性能、低功耗、複雜的CPU和系統IP架構和設計。ODyEETC-電子工程專輯 ODyEETC-電子工程專輯S3-lines位於韓國華城（Hwasung）廠區，是2018年建成投產的12英寸邏輯生產線，目前主要生產10納米至8納米產品，將是三星7納米產品的主力生產廠。
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Mentor工具被納入臺積電16納米FinFET製程技術參考流程
Mentor Graphics公司(納斯達克代碼：MENT)日前宣布它已完成其用於臺積電16納米FinFET製程的數字成套工具。
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更強CPU:碳納米電晶體性能首次超越矽電晶體-CPU,處理器,碳納米...
晶片製造商現在面臨一定的困難，它們要用更小的製程製造更快的CPU，正因如此，晶片企業已經開始尋找「矽」的替代品，比如碳納米管，最近，碳納米管技術取得了重要突破。美國威斯康星大學（University of Wisconsin-Madison）的科學家最近宣布，他們成功開發出碳納米電晶體，其性能大大超越現有的矽電晶體，它所通過的電量比電晶體高了1.9倍。科學家表示，碳納米管電晶體超越矽電晶體，這還是第一次。