很多小夥伴在後臺給小編留言，在採用國標檢測黴菌是容易汙染培養箱，培養箱汙染了怎麼處理？汙染的原因到底有哪些？
小編今天就和大家一起分析一下這個問題！
GB 4789.15-2016相比GB 4789.15-2010，最大的區別就在於對平皿的培養方式。2016版的國標在5.2中規定：「瓊脂凝固後，正置平板，置28℃±1℃培養箱中培養，觀察並記錄培養至第5d的結果。」
其實針對這一條，需要注意兩點：
第一，是需要對平板進行觀察的，不能直接培養至第5天計數，因為黴菌的特殊性，在培養過程中會產生大量孢子，導致整個平板蔓延。因此，在培養後的第2天開始，就要對平板進行觀察，並計數典型菌落，而這樣的觀察在之後每一天都應該進行，直至培養第5天。
第二，就是正置培養。這一點是16版國標與舊版最大的區別，10版之前的國標都是倒置培養的。而按照新國標進行正置培養後，很多朋友都遇到了平板被黴菌汙染的問題，比如圖中的情況，這是什麼原因呢？
大家很容易誤以為這是因為正置培養導致的，其實不然。造成這種情況的原因有很多種，可能有培養箱環境汙染，平皿冷凝水汙染，操作環境汙染、培養基問題等等，只是正置培養讓這些問題更容易顯現。這些問題都該如何解決呢？
汙染原因與解決措施
一、培養箱環境汙染
很多實驗室培養黴菌採用的是專用的黴菌培養箱，所以培養箱空間裡會有大量的黴菌孢子。而平皿的蓋和底是有一定縫隙的，尤其是玻璃平皿縫隙還是比較大的，正置培養中，孢子會向上飛揚通過縫隙落到平板的培養基上，導致汙染。細心地實驗猿可能發現，汙染的菌落大部分都是在平皿邊緣生長的。用一次性塑料平皿來培養，汙染的概率就會小很多，因為一次性塑料平皿的蓋和底之間的縫隙相比之下是比較小的。因此培養箱環境中的孢子可能會是主要汙染源。
這樣一來，解決的方法就應該是對培養箱進行殺菌。可以考慮用紫外線殺一下菌，同時輔助消毒劑擦拭的方法，常用消毒劑比如75%酒精和新潔爾滅等，應該注意的是，這樣的殺菌操作也是需要經常進行的，因為黴菌的孢子是十分難清除的，而每次培養可能又會引進新的汙染源，可以考慮每周進行兩次，保證培養環境無汙染源。
二、平皿冷凝水汙染
正置培養過程中，若是平皿的上蓋有泠凝水，在培養過程中冷凝水滴落到培養基上，也極容易造成菌落蔓延，平皿汙染。因此在培養之前，一定要保證平皿乾燥，可以把平皿放在37℃的環境裡烘乾，烘乾之後再進行培養，就會避免這個原因造成的汙染。
三、操作環境和培養基的汙染
因為無菌室裡可能也會因為滅菌效果不理想造成汙染。小編之前工作的實驗室，操作臺使用紫外線滅菌，經常就會滅菌不徹底有孢子汙染，尤其是在進行過黴菌的相關檢測之後。所以在進行過黴菌檢測之後，適當的增長滅菌時間，可能會達到比較理想的效果。另外，為了徹底解決無菌室空間孢子汙染的問題，可以購買安裝臭氧發生器，通過紫外線+臭氧的雙重消毒模式，效果就十分理想了。
大家如果還是想驗證一下究竟是什麼原因造成的汙染，這裡提供一個簡單的驗證試驗方法：在正常檢測的環境中倒一組空白平皿，將這些平皿分為AB兩組，其中A組用封口膜將平皿封好，B組不封，均放置在培養箱中正置培養。若是A組B組均有黴菌生長，則需要考慮培養基汙染或者操作環境的汙染；若是A組不生長黴菌而B組生長，則需要考慮是培養箱內的環境汙染。通過這個小試驗，可以基本上確定汙染源，然後針對汙染源進行相應的處理。