金屬有機骨架(metal-organic frameworks, MOF)因其與氣體分子的特定相互作用而聞名,其豐富有序的孔隙度是有助於對氣體分子的光催化轉換。然而,使用MOF材料或是基於MOF材料的複合材料進行CO2的光還原,轉化效率遠遠低於目前最先進的固態或分子催化劑。
近日,武漢大學鄧鶴翔、昝菱等提出了一種在MOF材料中製造「分子隔間」(molecular compartments)的策略,在MOF材料和衍生物材料的不同孔洞中生長TiO2,這種劃分導致了光電轉換材料TiO2與MOF材料中催化金屬團簇之間的協同作用,加速了對CO2光催化還原,同時產生了氧氣。在350 nm波長的光照射下,TiO2-in-MOF複合材料對CO2光還原的表觀量子效率(apparent quantum efficiency, AQE)達到了11.3%。此外,TiO2-in-MOF複合材料中,compartment II的催化效果遠優於compartment I,表明TiO2位置的重要性。該研究以題為「Filling metal-organic framework mesopores with TiO2 for CO2 photoreduction」的論文發表在最新一期的《Nature》上。
在研究中作者以鉻基MOF材料(chromium terephthalate-based MOF, MIL-101)為樣品,孔洞大小分別為8,29和34 Å。只有後兩者能夠在孔洞內生長TiO2並產生分子隔間(圖1),分別為compartment I(29 Å)和compartment II(34 Å)。
【材料製備與結構表徵】
圖1 利用TIO2填充形成分子隔間示意圖
Raman光譜顯示複合物中的TiO2主要以銳鈦礦(anatase)的形式存在。三維電子密度分布圖證明了TiO2在MOF孔洞中成功生長(圖2b)。當TiO2的含量從13%逐漸增加到23%時,compartment I先形成。在compartment I中,TiO2主要集中在孔洞的中心(圖2a,c)。當TiO2的含量從37%繼續增加到47%時,從圖2d中可以看出,TiO2已經開始覆蓋了compartment I的壁面。
圖2 控制TiO2-in-MOF複合材料中TIO2的含量與位置
作者還採用了TEM技術對TiO2在compartment I和compartment II中的位置進行了表徵。圖3顯示了MOF材料中介孔的精確位置。並作為參考,在MOF晶格中標出了TiO2的位置(圖3g-i)。上述手段證明MOF材料中的介孔幾乎都被TiO2填滿了。儘管孔洞中TIO2的精確位置可能存在著細微差異,但是由於介孔的限制,TiO2單元分布較為均勻,排列有序。
圖3 電鏡圖對MOF中TIO2位置的表徵
【複合材料對CO2光還原性能測試】
在CO2的光還原測試中,作者對CO、CH4以及O2這三個氣態產物都進行了監測(圖4a,b)。TiO2填充率達到42%的樣品42%-TiO2-in-MIL-101-Cr-NO2表現出了最優的轉換速度(12 mmolg-1h-1),與目前最先進的催化劑相當(1.5 mmolg-1h-1)。此外,這種TiO2-in-MOF複合材料在持續實驗中並未出現性能上的衰減(圖4a),在60個小時的測試中,結構也沒有出現降解。更重要的是,O2的產量達到了7.2 mmolg-1h-1,這是十分罕見的。計算得出TiO2-in-MOF複合材料在350 nm波長處表現出了最高為11.3%的AQE(圖4c),超過了所有其他的CO2光還原催化劑。此前報導的基於純MOF材料的CO2光還原AQE僅為3.6%。圖4b顯示純的MOF還原產物極少,在以此證明了TiO2在光吸收與電子產生方面的主導作用。
TiO2的位置對催化活性有著重大影響:圖4g顯示,對摻雜率為42%的樣品而言,在compartment II中的TiO2的轉化頻率(turnover frequency, TOF)為5.9 h-1 per TIO2 formula, 比compartment I中的高44倍。作者認為催化性能的提高主要源於TiO2表面電荷複合的減少。此外,TiO2的位置同樣影響了電子從TiO2到MOF之間的轉移。在compartment II中,被激發電子的壽命大幅度增加,有力於電子轉移到MOF中。
TiO2-in-MOF複合材料對CO2光催化還原的性能表徵
總結:作者在MOF材料中生長TiO2形成分子隔間,導致了TiO2與MOF材料中催化金屬團簇之間的協同作用,加速了對CO2光催化還原,同時產生了氧氣。在350 nm波長的光照射下,複合物對CO2光還原的AQE達到了11.3%。該策略解決了MOF材料或是基於MOF材料的複合材料進行CO2的光還原,轉化效率低的難題。
https://www.nature.com/articles/s41586-020-2738-2
來源:高分子科學前沿
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